中文摘要 | 第1-4页 |
英文摘要 | 第4-7页 |
1 国内外辐射育种研究现状及发展趋势 | 第7-16页 |
·辐射育种现状分析 | 第7-9页 |
·花卉辐射育种的现状 | 第7页 |
·花卉辐射育种的技术进展 | 第7-9页 |
·花卉辐射育种的展望 | 第9页 |
·高压静电场的作用原理 | 第9-10页 |
·高压静电场对生物体膜系统的作用 | 第9-10页 |
·高压静电场对种子萌发及幼苗生长所需酶活性的作用机制 | 第10页 |
·高压静电场促进植物叶绿素的合成 | 第10页 |
·高压静电场应用研究 | 第10-12页 |
·促进种子发芽,改良苗期生长 | 第10-11页 |
·提高植株叶片叶绿体含量,缩短了作物的生产周期 | 第11页 |
·促进植株的矮化 | 第11页 |
·提高了植株的抗逆性 | 第11-12页 |
·菊花遗传改良育种 | 第12-14页 |
·杂交育种 | 第12-13页 |
·辐射育种 | 第13页 |
·航天育种 | 第13-14页 |
·生物技术育种 | 第14页 |
·花卉种质资源的保存与繁殖 | 第14-15页 |
·研究的目的意义 | 第15-16页 |
2 试验地生态条件 | 第16页 |
·气候特点 | 第16页 |
·土壤条件 | 第16页 |
·植被特点 | 第16页 |
3 材料与方法 | 第16-22页 |
·试验材料 | 第16-18页 |
·引进国内地被菊品种 | 第16-17页 |
·引进日本寒菊类栽培种 | 第17页 |
·引进日本东京切花菊品种 | 第17-18页 |
·引进的日本野生菊花种 | 第18页 |
·研究方法 | 第18-22页 |
·天然杂交多亲本植株栽培 | 第18页 |
·种子采集 | 第18-19页 |
·辐射处理方法 | 第19页 |
·温室育苗试验 | 第19页 |
·辐射种子成苗定植试验方法 | 第19-20页 |
·数据处理 | 第20-21页 |
·辐射育种程序框图 | 第21-22页 |
4 结果分析 | 第22-51页 |
·生物学性状的分析比较 | 第22-23页 |
·高压静电场处理对菊花天然杂交种子的影响 | 第23-27页 |
·高压静电场对杂交种子发芽的影响 | 第23-25页 |
·高压静电场处理对菊苗成活率的影响 | 第25-27页 |
·高压静电场处理对小菊花色的影响 | 第27-48页 |
·花色变异及性状分析 | 第27页 |
·高压静电场辐射花色变异 | 第27-41页 |
·高压静电场辐射诱变优系的选择 | 第41-48页 |
·小菊定型优株选育分析 | 第48-49页 |
·种质的资源保存与快繁 | 第49-51页 |
5 讨论 | 第51页 |
6 结论 | 第51-52页 |
参考文献 | 第52-54页 |
图版 选育出的栽培小菊优系 | 第54-56页 |
致谢 | 第56页 |