| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-20页 |
| ·永磁材料的发展 | 第12-16页 |
| ·稀土永磁材料的发展 | 第12-14页 |
| ·稀土永磁薄膜的制备 | 第14-16页 |
| ·离子液体电沉积 | 第16页 |
| ·Reline 离子液体 | 第16-18页 |
| ·课题意义与主要研究内容 | 第18-20页 |
| ·课题意义 | 第18页 |
| ·主要研究内容 | 第18-20页 |
| 第二章 试验材料与试验方法 | 第20-26页 |
| ·试验材料与装置 | 第20-22页 |
| ·试验药品及材料 | 第20页 |
| ·试验仪器 | 第20-21页 |
| ·试验装置 | 第21-22页 |
| ·电沉积试验 | 第22-24页 |
| ·沉积液的配制 | 第22-23页 |
| ·电极的制备 | 第23页 |
| ·电沉积方法 | 第23-24页 |
| ·退火处理 | 第24页 |
| ·分析测试方法 | 第24-26页 |
| 第三章 电沉积的机理研究 | 第26-32页 |
| ·紫外分析 | 第26-28页 |
| ·循环伏安分析 | 第28-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第四章 Sm-Co 合金的电沉积制备 | 第32-61页 |
| ·沉积液浓度对沉积层成分的影响 | 第32-36页 |
| ·铜基底上沉积工艺参数对钐钴合金薄膜结构与性能的影响 | 第36-53页 |
| ·沉积电位对沉积层的影响 | 第36-44页 |
| ·沉积时间对沉积层的影响 | 第44-53页 |
| ·模板法电沉积制备钐钴合金纳米线 | 第53-56页 |
| ·单晶硅表面的电沉积 | 第56-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第五章 退火对钐钴合金薄膜性能的影响 | 第61-65页 |
| ·退火对晶体结构的影响 | 第61-63页 |
| ·退火对磁性能的影响 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第六章 结论 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第70-71页 |
| 作者与导师简介 | 第71-72页 |
| 附件 | 第72-73页 |