AAO模板制备及交流电沉积Ni纳米线的研究
| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-6页 |
| 引言 | 第6-7页 |
| 第一章 文献综述 | 第7-25页 |
| ·阳极氧化铝模板(AAO)的简介 | 第8-17页 |
| ·AAO模板的概述 | 第8-10页 |
| ·AAO模板的结构和组成 | 第10-11页 |
| ·AAO模板的形成机理 | 第11-14页 |
| ·AAO模板法制备一维纳米材料 | 第14-17页 |
| ·AAO模板法电沉积纳米线 | 第17-21页 |
| ·直流电沉积 | 第18页 |
| ·交流电沉积 | 第18-20页 |
| ·脉冲电沉积 | 第20页 |
| ·电沉积纳米线的应用 | 第20-21页 |
| ·Ni纳米线的概述 | 第21-24页 |
| ·Ni纳米线及其磁性能简介 | 第21-22页 |
| ·Ni纳米线制备方法简介 | 第22-24页 |
| ·本课题研究的目的及意义 | 第24-25页 |
| 第二章 AAO模板的恒压法制备与表征 | 第25-35页 |
| ·实验部分 | 第25-27页 |
| ·试剂和仪器 | 第25页 |
| ·实验方法和步骤 | 第25-27页 |
| ·结果与讨论 | 第27-34页 |
| ·氧化电压对模板的影响 | 第27-30页 |
| ·氧化时间对模板的影响 | 第30-31页 |
| ·扩孔时间对模板的影响 | 第31-33页 |
| ·恒压氧化机理 | 第33-34页 |
| ·本章结论 | 第34-35页 |
| 第三章 阶梯降压及氧化电压对阻隔层厚度的影响 | 第35-41页 |
| ·实验部分 | 第35-36页 |
| ·试剂和仪器 | 第35-36页 |
| ·实验方法和步骤 | 第36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-40页 |
| ·氧化电压对阻隔层厚度的影响 | 第36-37页 |
| ·阶梯降压对阻隔层厚度的影响 | 第37-40页 |
| ·本章结论 | 第40-41页 |
| 第四章 AAO模板的恒流法制备与表征 | 第41-51页 |
| ·实验部分 | 第41-42页 |
| ·试剂和仪器 | 第41-42页 |
| ·实验方法和步骤 | 第42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-49页 |
| ·氧化电流对模板的影响 | 第42-45页 |
| ·氧化时间对模板的影响 | 第45-46页 |
| ·扩孔时间对模板的影响 | 第46-48页 |
| ·恒流氧化机理 | 第48-49页 |
| ·恒压与恒流过程中模板形成机理的比较 | 第49页 |
| ·本章结论 | 第49-51页 |
| 第五章 交流电沉积制备Ni纳米线 | 第51-62页 |
| ·实验部分 | 第51-54页 |
| ·试剂和仪器 | 第51-52页 |
| ·实验方法和步骤 | 第52-53页 |
| ·金属Ni沉积理论 | 第53-54页 |
| ·结果与讨论 | 第54-61页 |
| ·模板对Ni纳米线的影响 | 第54-55页 |
| ·沉积电压的影响 | 第55-56页 |
| ·阻隔层厚度的影响 | 第56-57页 |
| ·阶梯降压法的影响 | 第57-58页 |
| ·电源滤波的影响 | 第58-60页 |
| ·沉积频率的影响 | 第60-61页 |
| ·本章结论 | 第61-62页 |
| 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
