| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract（英文摘要） | 第6-12页 |
| 主要符号对照表 | 第12-21页 |
| 第一章 引言 | 第21-37页 |
| 1．1 课题研究的目的和意义 | 第21页 |
| 1．2 层析成像技术的发展 | 第21-22页 |
| 1．3 层析成像技术的分类 | 第22-32页 |
| 1．4 光纤过程层析成像技术文献总结及讨论 | 第32-33页 |
| 1．5 论文的研究对象、方法及特色 | 第33-35页 |
| 1．5．1 论文的研究对象 | 第33-34页 |
| 1．5．2 论文的研究方法及特色 | 第34-35页 |
| 1．6 本论文各部分的主要内容 | 第35-37页 |
| 第二章 光纤过程层析成像技术基本理论 | 第37-50页 |
| 2．1 光纤过程层析成像研究的复杂性 | 第37-38页 |
| 2．2 前向问题与反向问题－信息的采集与提取 | 第38-39页 |
| 2．3 光在媒质中传输特性 | 第39-44页 |
| 2．3．1 光的反射与折射 | 第39-41页 |
| 2．3．2 光的吸收 | 第41-42页 |
| 2．3．3 光的散射 | 第42-44页 |
| 2．4 光子传输理论 | 第44-49页 |
| 2．4．1 辐射传输方程 | 第44-49页 |
| 2．4．2 传输系数和Kubelka-Munk系数 | 第49页 |
| 2．5 本章小结 | 第49-50页 |
| 第三章 新型光纤过程层析成像结构的设计 | 第50-60页 |
| 3．1 设计的背景 | 第50-51页 |
| 3．2 新型光纤过程层析成像结构 | 第51-53页 |
| 3．2．1 象素分配 | 第51-52页 |
| 3．2．2 平面光路结构 | 第52-53页 |
| 3．3 图像分辨率的重新定义 | 第53页 |
| 3．4 数值仿真与图像重建 | 第53-56页 |
| 3．4．1 原始投影数据的获得 | 第54页 |
| 3．4．2 图像重建过程 | 第54-56页 |
| 3．5 讨论 | 第56-58页 |
| 3．5．1 中心非测量区域的作用 | 第56-57页 |
| 3．5．2 光束形状对层析成像系统的影响 | 第57页 |
| 3．5．3 光束尺寸对层析成像系统的影响 | 第57-58页 |
| 3．5．4 象素分配方案的扩展 | 第58页 |
| 3．6 本章小结 | 第58-60页 |
| 第四章 新型光纤过程层析成像结构的设计理论 | 第60-74页 |
| 4．1 设计方法、原则及主要内容 | 第60-61页 |
| 4．1．1 从具体结构到设计理论的过渡 | 第60页 |
| 4．1．2 OFPT结构设计的主要内容 | 第60-61页 |
| 4．2 象素分配设计理论 | 第61-63页 |
| 4．3 平面光路结构设计理论 | 第63-72页 |
| 4．3．1 光线和光纤传感单元 | 第64-65页 |
| 4．3．2 光线1的限定条件 | 第65-66页 |
| 4．3．3 光线（的限定条件 | 第66-67页 |
| 4．3．4 光线在每层环面中的形状 | 第67-68页 |
| 4．3．5 OCC层中光线的角度范围 | 第68-69页 |
| 4．3．6 TLS层中光线的角度范围 | 第69-71页 |
| 4．3．7 光线在具有OCC的层中的限定条件 | 第71页 |
| 4．3．8 光线在不带有OCC的层中的限定条件 | 第71-72页 |
| 4．4 数值分析和经验公式 | 第72-73页 |
| 4．5 本章小结 | 第73-74页 |
| 第五章 光纤过程层析成像实用结构设计 | 第74-83页 |
| 5．1 概述 | 第74页 |
| 5．2 光学窗口元件的设计 | 第74-79页 |
| 5．2．1 光学窗口元件设计的必要性 | 第74页 |
| 5．2．2 光学窗口元件的形状 | 第74-75页 |
| 5．2．3 光线经过窗口元件时光路的变化 | 第75-76页 |
| 5．2．4 光学窗口通光面不平行度对光路的影响 | 第76-78页 |
| 5．2．5 被测截面内外媒质不同时对光路的影响 | 第78-79页 |
| 5．3 光纤准直器与探测器定位的计算 | 第79-81页 |
| 5．4 圆柱臂开口尺寸的计算 | 第81-82页 |
| 5．5 本章小结 | 第82-83页 |
| 第六章 初步实验 | 第83-91页 |
| 6．1 实验方法 | 第83页 |
| 6．2 实验装置 | 第83页 |
| 6．3 图像重建算法 | 第83-86页 |
| 6．4 系统各通道的随机误差 | 第86-87页 |
| 6．5 气－固两相物质分布实验 | 第87-90页 |
| 6．6 本章小结 | 第90-91页 |
| 第七章 新型光纤过程层析成像空间结构设计 | 第91-107页 |
| 7．1 引言 | 第91页 |
| 7．2 OFPT空间结构 | 第91-92页 |
| 7．3 OFPT空间结构的定位精度 | 第92-104页 |
| 7．3．1 空间反射光线的位置及分布 | 第92-94页 |
| 7．3．2 光纤准直器的定位 | 第94-95页 |
| 7．3．3 机械器臂的定位 | 第95-97页 |
| 7．3．4 反射棱镜的定位 | 第97-101页 |
| 7．3．5 系统的定位精度 | 第101-102页 |
| 7．3．6 光斑在光敏面的偏移 | 第102-104页 |
| 7．4 讨论 | 第104-106页 |
| 7．4．1 光电器件的位置 | 第104页 |
| 7．4．2 媒质对光学端面污染问题 | 第104-105页 |
| 7．4．3 测量环境对空间结构的影响 | 第105页 |
| 7．4．4 机械臂的形状 | 第105页 |
| 7．4．5 反馈控制 | 第105页 |
| 7．4．6 光电接口 | 第105-106页 |
| 7．5 本章小结 | 第106-107页 |
| 第八章 结论 | 第107-108页 |
| 参考文献 | 第108-114页 |
| 致谢 | 第114-115页 |
| 附录A 第四章公式的推导 | 第115-119页 |
| A．1 公式（4-1）的推导 | 第115页 |
| A．2 光线1的限定条件，即公式（4-15）的推导 | 第115-116页 |
| A．3 光线（的限定条件，即公式（4-16）的推导 | 第116页 |
| A．4 第4．3．5节中起始角（S的推导） | 第116-117页 |
| A．5 第4．3．5节中光线终止角（E的推导） | 第117页 |
| A．6 第4．3．6节中光线起始角与终止角的推导 | 第117-119页 |
| 附录B 第七章公式推导 | 第119-128页 |
| B．1 光纤准直器轴线定位角度误差引起光路的变化 | 第119-120页 |
| B．2 纸面内机械臂轴线定位角度误差引起光路的变化 | 第120-123页 |
| B．3 纸面内反射棱镜定位角度误差引起光路的变化 | 第123-124页 |
| B．4 与纸面垂直方向反射棱镜定位角度误差引起光路的变化 | 第124-125页 |
| B．5 反射棱镜水平定位偏差引起光路的变化 | 第125-126页 |
| B．6 光斑在光敏面的最大偏移量 | 第126-128页 |
| 个人简历、在学期间的研究成果及发表的论文 | 第128页 |
