| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-9页 |
| 第一章 端视ICP中基体效应和抑制方法的研究进展 | 第9-23页 |
| ·传统的侧视ICP中基体效应的研究进展 | 第9-12页 |
| ·与溶液进样、雾化、去溶过程有关的基体效应 | 第9-10页 |
| ·与分析物挥发、原子化、激发、电离等ICP放电过程有关的基体效应 | 第10-11页 |
| ·基体引起的背景位移和谱线重叠的干扰效应 | 第11-12页 |
| ·端视ICP研究进展 | 第12-17页 |
| ·端视ICP文献研究 | 第12-16页 |
| ·端视ICP中基体效应的研究 | 第16-17页 |
| ·基体效应抑制方法研究进展 | 第17-18页 |
| ·本文基本设想 | 第18-19页 |
| 参考文献 | 第19-23页 |
| 第二章 端视ICP中Ca、Mg基体效应的研究 | 第23-45页 |
| ·前言 | 第23页 |
| ·实验部分 | 第23-25页 |
| ·仪器与工作参数 | 第23-24页 |
| ·试剂与标液 | 第24页 |
| ·溶液的配制 | 第24页 |
| ·分析测定元素分析线的强度 | 第24-25页 |
| ·结果与讨论 | 第25-44页 |
| ·Ca、Mg在端视ICP中基体干扰效应 | 第25-29页 |
| ·端视ICP中基体效应与谱线激发能关系 | 第29-31页 |
| ·端视ICP与侧视ICP中元素检出限、基体干扰比较 | 第31-32页 |
| ·端视ICP中不同浓度的Ca基体、Mg基体干扰效应 | 第32-34页 |
| ·功率对基体效应的影响 | 第34-35页 |
| ·载气流量对基体效应的影响 | 第35-37页 |
| ·试样提升量对基体效应的影响 | 第37页 |
| ·ICP强化状态的判断 | 第37-38页 |
| ·Ca、Mg基体产生的背景干扰 | 第38-40页 |
| ·Ca、Mg基体干扰校正方法的选择 | 第40页 |
| ·离峰扣背景 | 第40-41页 |
| ·基体匹配校正法 | 第41-42页 |
| ·样品测定 | 第42页 |
| ·方法准确度 | 第42-43页 |
| ·方法精密度和检出限 | 第43-44页 |
| ·结论 | 第44页 |
| 参考文献 | 第44-45页 |
| 第三章 端视ICP中K、Fe基体效应及校正方法的研究 | 第45-55页 |
| ·前言 | 第45页 |
| ·实验部分 | 第45-48页 |
| ·主要仪器和工作参数 | 第45-46页 |
| ·主要试剂及样品 | 第46页 |
| ·溶液配制 | 第46页 |
| ·样品的前处理 | 第46页 |
| ·标准曲线 | 第46-47页 |
| ·样品测定 | 第47-48页 |
| ·结果与讨论 | 第48-54页 |
| ·钾基体效应 | 第48-49页 |
| ·铁光谱干扰 | 第49页 |
| ·多元光谱拟合(MSF)校正原理 | 第49-50页 |
| ·MSF模型浓度的确立 | 第50-52页 |
| ·MSF文件的建立 | 第52页 |
| ·MSF法处理复杂光谱图效果 | 第52-53页 |
| ·样品测定 | 第53-54页 |
| ·精密度和检出限 | 第54页 |
| ·结论 | 第54页 |
| 参考文献 | 第54-55页 |
| 结束语 | 第55-56页 |
| 论文发表情况 | 第56页 |
| 致谢 | 第56页 |
