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基于SOI的全内反射型AWG器件的研究

中文摘要第1-4页
英文摘要第4-5页
目录第5-7页
第一章 绪论第7-20页
 1. 1 引言第7-10页
 1. 2 DWDM集成光学器件的研究进展第10-16页
 1. 3 本论文的意义及工作第16页
 参考文献第16-20页
第二章 阵列波导光栅器件理论基础及SOI波导研究第20-37页
 2. 1 阵列波导光栅的理论基础第20-27页
  2. 1. 1 衍射光栅的概念及其演变第20-23页
  2. 1. 2 基本公式及理论第23-24页
  2. 1. 3 性能指标第24-26页
  2. 1. 4 器件的改进方法第26-27页
 2. 2 SOI波导研究第27-34页
  2. 2. 1 SOI材料简介第27-30页
  2. 2. 2 SOI器件工艺研究第30-34页
 2. 3 总结第34页
 参考文献第34-37页
第三章 全内反射型AWG的设计和优化分析第37-64页
 3. 1 Smit型AWG的设计第37-51页
  3. 1. 1 工作波长标准第37-39页
  3. 1. 2 波导结构及单模条件第39-40页
  3. 1. 3 用有效折射率法分析波导第40-42页
  3. 1. 4 色散分析第42-44页
  3. 1. 5 插入损耗分析第44-47页
  3. 1. 6 串扰分析第47-48页
  3. 1. 7 阵列波导几何参数的确定第48-51页
 3. 2 全内反射型AWG的设计第51-58页
  3. 2. 1 波导结构及器件几何参数第51-52页
  3. 2. 2 用BPM法分析光波在SOI波导中的传输第52-55页
  3. 2. 3 几何参数及偏振补偿原理第55-57页
  3. 2. 4 数值模拟第57-58页
 3. 3 全内反射镜分析第58-59页
 3. 4 楔形波导的优化分析第59-62页
 3. 5 输出波导的优化分析第62页
 3. 6 总结第62-63页
 参考文献第63-64页
第四章 器件工艺制作及测试第64-73页
 4. 1 全内反射型AWG的工艺制作第64-70页
  4. 1. 1 湿法腐蚀工艺第64-66页
  4. 1. 2 干法刻蚀工艺第66-68页
  4. 1. 3 制作器件的图片第68-69页
  4. 1. 4 光刻版的设计及相关图片第69-70页
  4. 1. 5 工艺制作中存在的问题及解决方法第70页
 4. 2 测试系统介绍第70-71页
 4. 3 测试结果第71-72页
 4. 4 总结第72页
 参考文献第72-73页
第五章 总结第73-74页
参考文献第74-75页
致谢第75-76页
附录:攻读硕士期间发表的论文,申请的专利及获奖情况第76页

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