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利用含铜蚀刻废液合成碱式碳酸铜新工艺研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-12页
符号说明第12-13页
第一章 前言第13-21页
   ·课题研究的背景第13页
   ·PCB蚀刻技术第13-15页
     ·PCB蚀刻液及其蚀刻原理第14页
     ·PCB蚀刻废液的来源及成分第14-15页
     ·PCB蚀刻废液的特点第15页
   ·PCB蚀刻废液综合利用的研究现状第15-17页
     ·溶剂萃取法第16页
     ·电解法第16页
     ·沉淀法第16-17页
   ·碱式碳酸铜的性质、用途及生产方法第17-19页
     ·碱式碳酸铜的性质第17页
     ·碱式碳酸铜的用途第17页
     ·碱式碳酸铜的生产工艺及方法第17-19页
   ·研究内容第19页
   ·本课题研究意义第19-21页
第二章 实验内容及分析方法第21-26页
   ·实验原料和试剂第21-22页
     ·实验原料第21页
     ·实验试剂第21-22页
   ·实验设备与仪器第22页
   ·实验内容第22-23页
   ·分析方法第23-26页
     ·铜含量的测定分析第23页
     ·氨浓度的测定分析第23-24页
     ·电感耦合等离子体发射光谱分析第24页
     ·X射线衍射分析(XRD)第24-25页
     ·扫描电子显微镜分析(SEM)第25-26页
第三章 氧化铜的制备第26-34页
   ·由碱性蚀刻液制备氧化铜第26-28页
     ·试剂及原料第26-27页
     ·反应原理第27页
     ·实验步骤及流程第27页
     ·分析方法第27页
     ·结果讨论第27-28页
   ·由酸性蚀刻液制备氧化铜第28-29页
     ·试剂及原料第28页
     ·反应原理第28页
     ·实验步骤及流程第28-29页
     ·分析方法第29页
     ·结果讨论第29页
   ·酸碱中和制备氧化铜第29-32页
     ·试剂及原料第29页
     ·反应原理第29-30页
     ·实验步骤及流程第30页
     ·分析方法第30页
     ·结果讨论第30-32页
   ·本章小结第32-34页
第四章 氧化铜氨浸取条件的研究第34-42页
   ·试剂及仪器第34-35页
   ·实验过程第35页
     ·实验步骤第35页
     ·分析方法第35页
   ·结果讨论第35-41页
     ·氨与铜物质的量比对浸铜率的影响第35-36页
     ·碳酸氢铵与铜物质的量比对浸铜率的影响第36-37页
     ·反应时间对浸铜的影响第37-38页
     ·温度对浸铜的影响第38页
     ·固液比的影响第38-39页
     ·反应原料的讨论第39页
     ·中间产物分析第39-41页
   ·本章小结第41-42页
第五章 蒸氨沉铜条件的研究第42-48页
   ·试剂及仪器第42页
   ·原理第42-43页
   ·实验步骤及工艺流程第43-44页
   ·分析方法第44页
   ·结果讨论第44-45页
     ·温度对蒸氨的影响第44页
     ·真空度对蒸氨的影响第44-45页
   ·产品质量分析第45-47页
     ·样品组分含量分析第45-46页
     ·样品的表征第46-47页
   ·本章小结第47-48页
第六章 中试试验第48-54页
   ·中试目的与内容第48页
   ·实验原料和设备第48-49页
   ·工艺流程第49-50页
   ·中试实验记录第50-51页
     ·物料投加量记录表第50页
     ·反应条件参数记录表第50-51页
   ·结果与讨论第51-52页
     ·碳酸铜产率第51-52页
     ·氨回率第52页
   ·经济效益分析第52-53页
   ·本章小结第53-54页
第七章 结论与展望第54-56页
   ·结论第54-55页
   ·展望第55-56页
参考文献第56-60页
致谢第60-61页
攻读学位期间发表论文情况第61页

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