摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-10页 |
第一章 前言 | 第10-26页 |
·LaVO_4复合氧化物概述 | 第10-14页 |
·LaVO_4复合氧化物的结构 | 第10-11页 |
·LaVO_4复合氧化物的合成 | 第11-14页 |
·高温固相合成法 | 第11-12页 |
·溶胶-凝胶法 | 第12页 |
·低温溶剂热合成法 | 第12-13页 |
·沉淀法 | 第13页 |
·模板法 | 第13-14页 |
·微波合成法 | 第14页 |
·LaVO_4的光催化性质研究 | 第14-20页 |
·光催化技术概述 | 第14-17页 |
·半导体材料的能级结构与光吸收 | 第14-15页 |
·光催化过程示意图 | 第15-17页 |
·光催化材料研究进展 | 第17-18页 |
·复合氧化物LaVO_4在可见光催化方面的潜在应用 | 第18-19页 |
·LaVO_4可见光催化活性的影响因素 | 第19-20页 |
·LaVO_4:Eu~(3+)光致发光性质的研究 | 第20-25页 |
l.3.1 发光材料概述 | 第20-24页 |
·发光材料分类 | 第20-21页 |
·光致发光物理过程 | 第21-22页 |
·光致发光材料性能参数 | 第22-24页 |
·LaVO_4:Eu~(3+)光致发光性质的研究进展 | 第24-25页 |
·本文研究主要内容与意义 | 第25-26页 |
第二章 LaVO_4的制备与分析方法概述 | 第26-33页 |
·实验药品及来源 | 第26-27页 |
·制备方法 | 第27-28页 |
·LaVO_4的制备 | 第27页 |
·溶胶-凝胶法 | 第27页 |
·水热合成法 | 第27页 |
·LaVO_4:Eu_(3+)的制备 | 第27-28页 |
·水热合成法 | 第27-28页 |
·沉淀法 | 第28页 |
·主要表征手段及其对应的仪器设备 | 第28-30页 |
·X-射线衍射(XRD) | 第28页 |
·扫描电镜(SEM) | 第28-29页 |
·傅立叶变换—红外光谱(FT-IR) | 第29页 |
·紫外可见漫反射光谱(UV-Vis DRS) | 第29页 |
·比表面积(BET) | 第29页 |
·光致发光光谱(PL) | 第29-30页 |
·实验室常用设备 | 第30页 |
·光催化反应装置与分析方法 | 第30-33页 |
·反应装置 | 第30-32页 |
·分析方法 | 第32-33页 |
第三章 LaVO_4的可见光催化性质 | 第33-43页 |
·引言 | 第33页 |
·溶胶-凝胶法制备的LaVO_4样品表征与光催化性质 | 第33-40页 |
·样品表征 | 第33-37页 |
·X-射线衍射(XRD) | 第33页 |
·傅立叶变换—红外光谱(FT-IR) | 第33-35页 |
·扫描电镜(SEM) | 第35页 |
·比表面积(BET) | 第35-36页 |
·紫外-可见漫反射光谱(UV-Vis DRS) | 第36-37页 |
·可见光催化活性评价 | 第37-40页 |
·煅烧温度的影响 | 第37-38页 |
·电子受体的影响 | 第38-39页 |
·染料溶液pH值的影响 | 第39-40页 |
·水热法制备的LaVO_4样品可见光催化性质 | 第40-43页 |
·样品表征 | 第40-41页 |
·X-射线衍射(XRD) | 第40-41页 |
·扫描电镜(SEM) | 第41页 |
·可见光催化活性评价 | 第41-43页 |
第四章LaVO_4:Eu~(3+)的光致发光性质 | 第43-57页 |
·引言 | 第43页 |
·LaVO_4:Eu~(3+)的激发光谱 | 第43-44页 |
·LaVO_4:Eu~(3+)光致发光性质 | 第44-56页 |
·水热法制备的LaVO_4:Eu~(3+)光致发光性质 | 第44-49页 |
·pH值的影响 | 第44-46页 |
·Eu~(3+)掺杂量的影响 | 第46-48页 |
·水热温度的影响 | 第48-49页 |
·沉淀法制备的LaVO_4:Eu~(3+)光致发光性质 | 第49-56页 |
·pH值的影响 | 第50-52页 |
·陈化时间的影响 | 第52-54页 |
·Eu~(3+)掺杂量的影响 | 第54-55页 |
·高温煅烧的影响 | 第55-56页 |
·本章小结 | 第56-57页 |
第五章结论与展望 | 第57-59页 |
·总结 | 第57-58页 |
·展望 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-66页 |
附录 硕士期间发表的文章 | 第66-67页 |
致谢 | 第67页 |