摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-10页 |
目录 | 第10-12页 |
第一章 绪论 | 第12-28页 |
·纳米材料简介 | 第12-16页 |
·纳米技术的发展历程 | 第12-13页 |
·纳米材料的性质 | 第13-15页 |
·纳米材料的应用 | 第15-16页 |
·纳米材料的制备 | 第16-20页 |
·纳米材料的分类 | 第16-17页 |
·纳米材料的主要制备方法 | 第17-20页 |
·多孔阳极氧化铝概述 | 第20-24页 |
·多孔阳极氧化铝的研究历程 | 第21-22页 |
·多孔阳极氧化铝的生长机理 | 第22-23页 |
·氧化铝模板的主要应用 | 第23-24页 |
·本文的研究内容 | 第24-25页 |
参考文献 | 第25-28页 |
第二章 纳米材料表征技术 | 第28-40页 |
·纳米材料的主要观测方法 | 第28-33页 |
·扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscopy, SEM) | 第28-30页 |
·透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope, TEM) | 第30-32页 |
·隧道扫描显微镜(Scanning Tunneling Microscope, STM) | 第32-33页 |
·纳米材料的主要光谱研究方法 | 第33-39页 |
·紫外-可见光谱(Ultra-visible Spectrum) | 第33-34页 |
·显微拉曼光谱(micro-Raman Spectrum) | 第34-37页 |
·光致发光谱(Photoluminescence Spectrum, PL) | 第37-39页 |
参考文献 | 第39-40页 |
第三章 模板法制备金属纳米孔阵列膜及其形貌修饰 | 第40-56页 |
·模板法简介 | 第40-41页 |
·模板的分类 | 第40-41页 |
·纳米结构模板的主要合成方法 | 第41页 |
·高场二步阳极氧化法制备氧化铝模板 | 第41-45页 |
·金属纳米孔阵列膜的制备 | 第45-46页 |
·金属纳米孔阵列膜的形貌研究 | 第46-54页 |
·去阻碍层/扩孔过程对样品正面形貌修饰的研究 | 第47-49页 |
·去阻碍层/扩孔过程对样品背面形貌修饰的研究 | 第49-54页 |
参考文献 | 第54-56页 |
第四章 金属纳米孔阵列膜的光学特性研究 | 第56-73页 |
·选择性透射增强效应概述 | 第56-60页 |
·选择性透射增强效应简介 | 第56-57页 |
·SPP的相关理论 | 第57-58页 |
·SPP的相关应用 | 第58-60页 |
·金属纳米孔阵列膜的光学透过率研究 | 第60-71页 |
·保留阻碍层PAA样品镀金前后透过率研究 | 第61-62页 |
·完全去阻碍层PAA样品镀金前后透过率研究 | 第62-63页 |
·不同孔隙率PAA样品镀金前后透过率研究 | 第63-67页 |
·透射增强倍率的研究 | 第67-69页 |
·银膜样品的研究 | 第69-71页 |
参考文献 | 第71-73页 |
第五章 结论 | 第73-75页 |
攻读硕士期间发表的学术论文 | 第75-76页 |
致谢 | 第76-78页 |