| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-22页 |
| ·SiC的结构 | 第9-11页 |
| ·SiC的性质 | 第11-12页 |
| ·SiC的应用 | 第12-13页 |
| ·SiC薄膜的表征 | 第13-18页 |
| ·X射线衍射谱 | 第13-14页 |
| ·傅里叶红外光谱 | 第14-15页 |
| ·拉曼光谱 | 第15-16页 |
| ·X射线光电子能谱 | 第16-17页 |
| ·原子力显微镜和各种电镜 | 第17-18页 |
| ·近地空间探测EUV/X射线的意义 | 第18页 |
| ·EUV/X射线空间天文学 | 第18-20页 |
| ·EUV/X射线透射光栅谱仪的发展 | 第20页 |
| ·近地空间环境下X/EUV透射光栅 | 第20页 |
| ·本论文的研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 SiC自支撑薄膜的X射线衍射光学元件的制备 | 第22-38页 |
| ·PECVD的工作原理 | 第22-26页 |
| ·等离子体 | 第23-24页 |
| ·等离子体的产生 | 第24-25页 |
| ·等离子体增强化学气象沉积的特点和应用 | 第25-26页 |
| ·PECVD制备SiC薄膜工艺 | 第26-34页 |
| ·沉积系统的结构 | 第27-28页 |
| ·衬底的预处理 | 第28页 |
| ·沉积SiC薄膜 | 第28页 |
| ·退火 | 第28-30页 |
| ·SiC表征结果与讨论 | 第30-34页 |
| ·SiC自支撑薄膜的制作工艺流程 | 第34-36页 |
| ·极紫外透射光栅的制作工艺流程 | 第36-38页 |
| 第三章 EUV/X射线透射光栅光谱仪的系统构成 | 第38-44页 |
| ·光学设计 | 第38-39页 |
| ·系统结构 | 第39-41页 |
| ·分辨率分析 | 第41-42页 |
| ·影响其光学性能的因素 | 第42-44页 |
| 第四章 传热学理论 | 第44-48页 |
| ·热传递的方式及基本方程 | 第44-46页 |
| ·对流 | 第44-45页 |
| ·对流 | 第45页 |
| ·辐射 | 第45-46页 |
| ·边界条件和初始条件 | 第46页 |
| ·稳态传热与瞬态传热 | 第46-48页 |
| 第五章 有限元理论模型的建立 | 第48-53页 |
| ·有限元理论简介 | 第48页 |
| ·有限元方法的基本思想 | 第48-49页 |
| ·有限元方法的基本步骤 | 第49-51页 |
| ·结构的离散化 | 第49-50页 |
| ·单元分析 | 第50-51页 |
| ·单元集成 | 第51页 |
| ·求解方程,得出节点位移 | 第51页 |
| ·由节点位移计算单元的应变与应力 | 第51页 |
| ·有限元方法在工程中的应用发展 | 第51-53页 |
| 第六章 近地空间X/EUV透射光栅热形变有限元分析 | 第53-62页 |
| ·极紫外透射光栅的结构 | 第53-54页 |
| ·光栅模型热力学理论分析 | 第54-55页 |
| ·光栅热力学有限元模拟 | 第55-61页 |
| ·有限元仿真分析方法 | 第55-57页 |
| ·热分析温度场分布 | 第57-58页 |
| ·热应力耦合场分析及形变 | 第58-61页 |
| ·结果与讨论 | 第61-62页 |
| 第七章 总结与展望 | 第62-65页 |
| ·本论文的工作总结 | 第62-63页 |
| ·未来工作展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-73页 |
| 在学期间发表论文目录 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-76页 |