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随机外场和晶场作用下横场Ising模型的临界性质和磁化行为

中文摘要第1-5页
Abstract第5-8页
第一章 引言第8-14页
   ·理论模型第9-12页
     ·Ising 模型第9-10页
     ·Blume-Capel 模型第10-11页
     ·横场Ising 模型第11-12页
     ·考虑晶场和横场作用的Ising 模型第12页
   ·本文的主要工作第12-14页
第二章 随机外场和晶场作用横场Ising 模型的临界性质第14-26页
   ·理论推导第14-17页
   ·三模外场分布的结果讨论第17-22页
   ·二模外场分布的结果讨论第22-24页
   ·本章小结第24-26页
第三章 二模外场和晶场作用的混合自旋横场Ising 模型的磁化行为第26-34页
   ·理论推导第26-29页
   ·结果和讨论第29-33页
   ·本章小结第33-34页
结束语第34-35页
参考文献第35-37页
攻读硕士学位期间发表的学术论文情况第37-38页
致谢第38-39页

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