摘要 | 第4-7页 |
Abstract | 第7-10页 |
第一章 绪论 | 第14-35页 |
1.1 双钙钛矿氧化物的研究历史 | 第14-15页 |
1.2 双钙钛矿氧化物的基本晶体结构 | 第15-17页 |
1.3 双钙钛矿氧化物的磁性起源 | 第17-21页 |
1.3.1 超交换作用模型 | 第18-19页 |
1.3.2 双交换作用模型 | 第19-20页 |
1.3.3 其他理论探索 | 第20-21页 |
1.4 双钙钛矿中的磁致电阻效应 | 第21-24页 |
1.4.1 磁致电阻定义 | 第21-22页 |
1.4.2 隧穿磁电阻效应 | 第22-23页 |
1.4.3 自旋极化率 | 第23-24页 |
1.5 双钙钛矿中的点缺陷 | 第24-26页 |
1.5.1 反位缺陷 | 第24-26页 |
1.5.2 氧缺陷 | 第26页 |
1.6 本论文的研究内容和意义 | 第26-28页 |
参考文献 | 第28-35页 |
第二章 实验及测试方法 | 第35-50页 |
2.1 样品制备 | 第35-39页 |
2.1.1 陶瓷样品、多晶靶材制备工艺 | 第35-37页 |
2.1.2 薄膜样品的制备工艺 | 第37-39页 |
2.2 PLD的研究进展及其工艺特点 | 第39-41页 |
2.2.1 PLD的研究进展 | 第39-40页 |
2.2.2 PLD的工艺特点 | 第40-41页 |
2.3 表征测试方法 | 第41-48页 |
2.3.1 表面形貌分析 | 第41-42页 |
2.3.2 晶体结构分析 | 第42-45页 |
2.3.3 价态分析 | 第45-46页 |
2.3.4 磁学性质表征 | 第46-47页 |
2.3.5 输运性质表征 | 第47-48页 |
2.4 本章小结 | 第48-49页 |
参考文献 | 第49-50页 |
第三章 基于Sr_2FeMoO_6不同化学计量比的双钙钛矿陶瓷的制备和结构、性能表征 | 第50-70页 |
3.1 引言 | 第50-51页 |
3.2 陶瓷的制备和表征方法 | 第51-52页 |
3.2.1 陶瓷的制备 | 第51-52页 |
3.2.2 表征方法 | 第52页 |
3.3 实验数据分析 | 第52-65页 |
3.3.1 XRD图谱分析 | 第52-54页 |
3.3.2 XPS价态分析 | 第54-55页 |
3.3.3 TEM对微结构的分析 | 第55-60页 |
3.3.4 磁性测试分析 | 第60-64页 |
3.3.5 输运性质分析 | 第64-65页 |
3.4 本章小结 | 第65-67页 |
参考文献 | 第67-70页 |
第四章 化学计量比Sr_2FeMoO_6薄膜的制备和结构、物理性能表征 | 第70-98页 |
4.1 引言 | 第70-71页 |
4.2 薄膜的制备和表征方法 | 第71-72页 |
4.3 Sr_2FeMoO_6 (x=0)薄膜实验数据分析 | 第72-79页 |
4.3.1 XRD图谱分析 | 第72-76页 |
4.3.2 AFM表面形貌表征 | 第76页 |
4.3.3 XPS对薄膜中N元素的表征 | 第76-77页 |
4.3.4 磁性数据分析 | 第77-78页 |
4.3.5 电输运性质 | 第78-79页 |
4.4 不同氮气压下生长的Sr_2Fe_(10/9)Mo_(8/9)O_6 (x=1/9)薄膜的研究 | 第79-85页 |
4.4.1 XRD图谱分析 | 第79-80页 |
4.4.2 TEM微结构分析 | 第80-83页 |
4.4.3 磁性数据分析 | 第83-84页 |
4.4.4 电输运性质 | 第84-85页 |
4.5 对不同厚度的Sr_2Fe_(10/9)Mo_(8/9)O_6 (x=1/9)薄膜的研究 | 第85-92页 |
4.5.1 XRD图谱分析 | 第85-86页 |
4.5.2 XPS价态分析 | 第86-87页 |
4.5.3 TEM微结构分析 | 第87-90页 |
4.5.4 磁性数据分析 | 第90-91页 |
4.5.5 电输运性质 | 第91-92页 |
4.6 不同氮气压下生长的Sr_2Fe_(7/6)Mo_(5/6)O_6 (x=1/6)薄膜的研究 | 第92-95页 |
4.6.1 XRD图谱分析 | 第92-93页 |
4.6.2 AFM表面形貌分析 | 第93-94页 |
4.6.3 磁性数据分析 | 第94-95页 |
4.7 本章小结 | 第95-96页 |
参考文献 | 第96-98页 |
第五章 Sr_2CrWO_6双钙钛矿薄膜的制备和结构、物理性能表征 | 第98-122页 |
5.1 引言 | 第98-99页 |
5.2 薄膜的制备 | 第99-100页 |
5.3 SCWO薄膜气氛条件探索 | 第100-105页 |
5.3.1 XRD图谱分析 | 第100-102页 |
5.3.2 XPS价态分析 | 第102-104页 |
5.3.3 磁性与输运性质 | 第104-105页 |
5.4 对不同沉积温度下生长的SCWO薄膜的研究 | 第105-118页 |
5.4.1 XRD图谱分析 | 第105-106页 |
5.4.2 AFM数据分析 | 第106-109页 |
5.4.3 TEM微结构分析 | 第109-114页 |
5.4.4 磁性数据分析 | 第114-117页 |
5.4.5 输运性质分析 | 第117-118页 |
5.5 本章小结 | 第118-120页 |
参考文献 | 第120-122页 |
第六章 总结与展望 | 第122-125页 |
6.1 工作总结 | 第122-123页 |
6.2 展望 | 第123-125页 |
攻读博士学位期间发表的论文和申请的专利 | 第125-126页 |
致谢 | 第126-127页 |