Cu辅助常压热退火制备TiO2纳米线
致谢 | 第1-5页 |
摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-11页 |
第一章 绪论 | 第11-26页 |
·引言 | 第11页 |
·纳米材料的基本内涵及特性 | 第11-14页 |
·小尺寸效应 | 第12页 |
·量子隧道效应 | 第12-13页 |
·表面效应 | 第13页 |
·量子尺寸效应 | 第13-14页 |
·介电限域效应 | 第14页 |
·一维纳米材料的应用和可控合成研究 | 第14-21页 |
·一维纳米材料的应用 | 第14-15页 |
·光电器件 | 第14-15页 |
·传感器 | 第15页 |
·催化剂方面 | 第15页 |
·电池方面的应用 | 第15页 |
·功能复合材料 | 第15页 |
·一维纳米结构的可控合成 | 第15-21页 |
·基于VLS机制的催化生长法 | 第16-17页 |
·模板限制法 | 第17-18页 |
·表面活性剂辅助的动力学控制法 | 第18-19页 |
·利用晶体结构各向异性直接生长法 | 第19-21页 |
·二氧化铁纳米材料概述 | 第21-24页 |
·光催化降解能力 | 第22页 |
·防污自洁净能力 | 第22-23页 |
·紫外线吸收特性 | 第23页 |
·光电转换效应 | 第23-24页 |
·增韧材料 | 第24页 |
·电子材料 | 第24页 |
·选题依据和研究内容 | 第24-26页 |
第二章 表征方法及原理 | 第26-31页 |
·透射电子显微镜(TEM) | 第26-27页 |
·透射电子显微镜工作原理 | 第26-27页 |
·透射电子显微镜样品制作 | 第27页 |
·电子衍射法(ED) | 第27-28页 |
·场发射扫描电子显微镜(FESEM) | 第28页 |
·X射线衍射(XRD) | 第28-29页 |
·X射线能量色散谱(EDS) | 第29-31页 |
第三章 依靠内部氧源生长TIO_2纳米线 | 第31-42页 |
·引言 | 第31-32页 |
·实验部分 | 第32-41页 |
·样品制备 | 第32-34页 |
·表征 | 第34页 |
·结果与讨论 | 第34-41页 |
·反应温度对产物影响 | 第34-35页 |
·退火保温时间的影响 | 第35-36页 |
·催化剂用量的影响 | 第36-38页 |
·TiO_2纳米线生长机理讨论 | 第38-41页 |
·结论 | 第41-42页 |
第四章 依靠外部氧源生长TIO_2纳米线 | 第42-56页 |
·引言 | 第42页 |
·实验部分 | 第42-53页 |
·样品制备 | 第42-44页 |
·表征 | 第44页 |
·结果与讨论 | 第44-53页 |
·氧气流量、反应温度以及催化剂对产物影响 | 第44-47页 |
·保温时间和退火阶段氧气通入时间的影响 | 第47-49页 |
·保温时间及该阶段氧气通入时间的影响 | 第49-50页 |
·TiO_2纳米线生长机理讨论 | 第50-53页 |
·特殊形貌纳米结构及机理初探 | 第53-54页 |
·结论 | 第54-56页 |
第五章 结论 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-62页 |
个人简历 | 第62页 |
发表论文和专利 | 第62页 |