面内取向BaM铁氧体膜的可控制备与磁学性质研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4-5页 |
| 第1章 引言 | 第9-28页 |
| 1.1 课题的研究背景 | 第9-10页 |
| 1.2 六角铁氧体的物理基础 | 第10-18页 |
| 1.2.1 晶体结构与化学组成 | 第10-14页 |
| 1.2.2 磁晶各向异性 | 第14-16页 |
| 1.2.3 铁磁共振特性 | 第16-18页 |
| 1.3 面内取向BaM膜的制备方法及研究现状 | 第18-26页 |
| 1.3.1 脉冲激光沉积 | 第20-22页 |
| 1.3.2 液相外延 | 第22-24页 |
| 1.3.3 磁控溅射 | 第24-26页 |
| 1.4 本论文的研究思路与主要研究内容 | 第26-28页 |
| 第2章 六角铁氧体靶材的制备 | 第28-47页 |
| 2.1 本章引言 | 第28页 |
| 2.2 气氛烧结制备BaM导电陶瓷靶材 | 第28-35页 |
| 2.2.1 实验过程 | 第28-29页 |
| 2.2.2 煅烧气氛对BaM陶瓷物相的影响 | 第29-30页 |
| 2.2.3 烧结气氛对BaM陶瓷电阻率的影响 | 第30-32页 |
| 2.2.4 BaM陶瓷的复阻抗特性 | 第32-34页 |
| 2.2.5 BaM导电靶材的制备 | 第34-35页 |
| 2.3 气氛烧结制备Co_2Z陶瓷 | 第35-46页 |
| 2.3.1 实验方法 | 第36页 |
| 2.3.2 样品的物相与显微结构 | 第36-38页 |
| 2.3.3 烧结气氛对Co_2Z磁性能的影响 | 第38-40页 |
| 2.3.4 烧结气氛对Co_2Z电性能的影响 | 第40-42页 |
| 2.3.5 Co_2Z陶瓷的复阻抗研究 | 第42-46页 |
| 2.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 第3章 面内取向BaM膜的直流磁控溅射制备与表征 | 第47-68页 |
| 3.1 本章引言 | 第47页 |
| 3.2 直流磁控溅射法制备c轴面内取向BaM薄膜 | 第47-54页 |
| 3.2.1 实验方法 | 第47-48页 |
| 3.2.2 薄膜的物相与取向 | 第48-52页 |
| 3.2.3 薄膜的磁性和微波特性 | 第52-54页 |
| 3.3 溅射气氛对薄膜性能的影响 | 第54-60页 |
| 3.3.1 薄膜的物相和形貌 | 第54-56页 |
| 3.3.2 薄膜的磁性和微波特性 | 第56-58页 |
| 3.3.3 晶粒取向的弥散 | 第58-60页 |
| 3.4 薄膜的取向生长机理 | 第60-67页 |
| 3.4.1 氧化铁相的作用 | 第60-63页 |
| 3.4.2 外延生长机制 | 第63-65页 |
| 3.4.3 面内取向生长模型 | 第65-67页 |
| 3.5 本章小结 | 第67-68页 |
| 第4章 微米级BaM厚膜的制备与性能研究 | 第68-85页 |
| 4.1 本章引言 | 第68页 |
| 4.2 厚度对BaM取向膜的影响 | 第68-75页 |
| 4.2.1 实验方法 | 第68页 |
| 4.2.2 物相和形貌分析 | 第68-71页 |
| 4.2.3 磁性能和微波特性 | 第71-75页 |
| 4.3 逐层退火法制备微米级c轴面内取向BaM膜 | 第75-84页 |
| 4.3.1 实验方法 | 第75-76页 |
| 4.3.2 物相与微观形貌 | 第76-78页 |
| 4.3.3 偏振拉曼光谱分析 | 第78-80页 |
| 4.3.4 静磁特性 | 第80-81页 |
| 4.3.5 微波铁磁共振性能研究 | 第81-84页 |
| 4.4 本章小结 | 第84-85页 |
| 第5章 面内随机取向BaM膜的生长机理 | 第85-95页 |
| 5.1 本章引言 | 第85页 |
| 5.2 实验方法 | 第85-86页 |
| 5.3 薄膜的取向结构与性能表征 | 第86-94页 |
| 5.3.1 薄膜的物相以及取向 | 第86-88页 |
| 5.3.2 薄膜的拉曼光谱和显微形貌 | 第88-90页 |
| 5.3.3 薄膜的磁性 | 第90-91页 |
| 5.3.4 面内随机取向生长机理的研究 | 第91-94页 |
| 5.4 本章小结 | 第94-95页 |
| 第6章 结论 | 第95-97页 |
| 参考文献 | 第97-108页 |
| 致谢 | 第108-110页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第110-111页 |
