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少层1Td-MoTe2的低温输运性质研究

摘要第4-5页
abstract第5-6页
第一章 绪论第11-30页
    1.1 过渡金属二硫化物MX2的晶体结构第11-12页
    1.2 单层过渡金属二硫化物MX2的能带结构第12-13页
    1.3 过渡金属二硫化物MX2的物性第13-18页
        1.3.1 Weyl半金属第13-18页
            1.3.1.1 手性反常第15-16页
            1.3.1.2 负磁阻效应和非局域性第16-17页
            1.3.1.3 费米弧第17-18页
    1.4 二维超导电性第18-29页
        1.4.1 界面引起的超导电性第21-22页
        1.4.2 单层FeSe中的高温超导电性第22-23页
        1.4.3 电场诱导的二维超导电性第23-25页
        1.4.4 机械剥离的2D超导体第25页
        1.4.5 二维超导体的量子金属态第25-28页
        1.4.6 Ising超导电性第28-29页
    1.5 本文的研究动机第29-30页
第二章 样品制备与测量仪器第30-37页
    2.1 引言第30页
    2.2 少层MoTe_2样品的生长及器件微加工制备第30-32页
    2.3 NbSe_2样品的生长第32页
    2.4 测量仪器第32-37页
        2.4.1 ~3He制冷机第33-34页
        2.4.2 综合物性测量系统(PPMS)第34页
        2.4.3 稀释制冷机第34-37页
第三章 少层MoTe_2的Ising超导电性第37-52页
    3.1 引言第37-38页
    3.2 少层MoTe_2的基本输运性质第38-47页
        3.2.1 Few-layerMoTe_2的超导增强现象第39-42页
        3.2.2 少层MoTe_2中的二维超导电性第42-46页
        3.2.3 少层MoTe_2中的Ising超导电性第46-47页
    3.3 少层1Td-MoTe_2中的超导—绝缘体转变第47-49页
    3.4 少层NbSe_2的超导性质第49-52页
第四章 总结与展望第52-53页
致谢第53-54页
参考文献第54-60页

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