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基于电磁时间反演的远场高分辨率成像技术研究

摘要第5-7页
abstract第7-9页
第一章 绪论第12-29页
    1.1 研究工作的背景和发展动态第12-26页
        1.1.1 时间反演高分辨率成像的研究背景第12-14页
        1.1.2 时间反演技术的发展动态第14-17页
        1.1.3 时间反演成像方法的发展动态第17-19页
        1.1.4 高分辨率成像的发展动态第19-26页
    1.2 研究工作的意义和主要内容第26-27页
    1.3 研究工作的主要贡献和创新点第27-29页
第二章 小金属球阵列辅助下的源目标成像第29-76页
    2.1 矢量时间反演场第29-38页
        2.1.1 电流源激励情况第29-35页
        2.1.2 磁流源激励情况第35-38页
    2.2 偶极子源激励情况散射场求解第38-53页
        2.2.1 水平电偶极子源激励情况第39-45页
        2.2.2 垂直电偶极子源激励情况第45-48页
        2.2.3 水平磁偶极子源激励情况第48-51页
        2.2.4 垂直磁偶极子源激励情况第51-53页
    2.3 单金属散射体情况并矢格林函数分析第53-57页
        2.3.1 单一散射体位于坐标原点且激励源处于Z轴上的情况第53-54页
        2.3.2 电流源激励且单一散射体和激励源位置均为任意的情况第54-55页
        2.3.3 磁流源激励且单一散射体和激励源位置均为任意的情况第55-57页
    2.4 多金属球散射体情况并矢格林函数分析第57-59页
    2.5 时间反演场数值求解结果第59-64页
        2.5.1 单散射体情况第59-62页
        2.5.2 多散射体情况第62-64页
    2.6 源目标成像第64-74页
    2.7 本章小结第74-76页
第三章 光栅结构辅助下的源目标成像第76-99页
    3.1 时间反演时域成像处理及成像第76-88页
        3.1.1 凋落波转换结构的设计第78-82页
        3.1.2 时间反演成像方法第82-83页
        3.1.3 实验分析第83-88页
    3.2 关键参数选取分析第88-97页
    3.3 本章小结第97-99页
第四章 光栅结构辅助下的散射体目标成像第99-120页
    4.1 光栅结构散射场分析第99-108页
        4.1.1 P极化波第100-105页
        4.1.2 S极化波第105-108页
    4.2 时间反演成像第108-114页
        4.2.1 离散TRC幅度归一化处理第109-112页
        4.2.2 反演去调制成像第112-114页
    4.3 成像结果分析第114-118页
        4.3.1 时域数据处理结果第114-117页
        4.3.2 频域数据处理结果第117-118页
    4.4 本章小结第118-120页
第五章 总结第120-123页
    5.1 全文总结第120-122页
    5.2 下一步工作展望第122-123页
致谢第123-124页
参考文献第124-133页
攻读博士学位期间取得的成果第133页

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