| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 引言 | 第9-20页 |
| ·等离子体浸没离子注入技术及应用 | 第9-13页 |
| ·等离子体浸没离子注入技术 | 第9-11页 |
| ·等离子体浸没离子注入技术的应用 | 第11-13页 |
| ·等离子体浸没离子注入技术离子鞘层扩展动力学方法 | 第13-16页 |
| ·解析方法 | 第13-14页 |
| ·流体动力学方法 | 第14-15页 |
| ·Monte Carlo方法 | 第15页 |
| ·PIC(particle in cell)方法 | 第15-16页 |
| ·等离子体浸没离子注入技术在介质靶及管状内表面改性方面的研究现状 | 第16-18页 |
| ·等离子体浸没离子注入介质靶材的研究现状 | 第16-17页 |
| ·等离子体浸没离子注入管状材料内表面的研究现状 | 第17-18页 |
| ·本文的研究内容 | 第18-20页 |
| 2 等离子体浸没离子注入圆柱形介质管内表面鞘层演化特性研究 | 第20-41页 |
| ·理论模型 | 第20-23页 |
| ·PⅢ过程流体力学数值模拟求解方法 | 第23-24页 |
| ·模拟结果及讨论 | 第24-40页 |
| ·PⅢ鞘层的时空演化特性 | 第25-33页 |
| ·PET薄膜介质厚度对PⅢ鞘层演化特性的影响 | 第33-35页 |
| ·脉冲上升沿对PⅢ鞘层演化特性的影响 | 第35-37页 |
| ·脉冲下降沿对PⅢ鞘层演化特性的影响 | 第37-40页 |
| ·小结 | 第40-41页 |
| 3 离子成分比对等离子体浸没离子注入圆柱形介质管内表面鞘层演化特性的影响 | 第41-51页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·理论模型 | 第41-43页 |
| ·模拟结果及讨论 | 第43-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 4 强磁场对等离子体浸没离子注入圆柱形介质管内表面鞘层演化特性的影响 | 第51-65页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·理论模型 | 第51-54页 |
| ·模拟结果及讨论 | 第54-64页 |
| ·小结 | 第64-65页 |
| 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-74页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-77页 |
