摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
1 绪论 | 第12-28页 |
1.1 离子交换膜概述 | 第12-13页 |
1.2 离子交换膜的分类 | 第13-14页 |
1.2.1 按照其内部交换基团分类 | 第13页 |
1.2.2 按照膜内部交换基团与膜骨架结合的形式分类 | 第13页 |
1.2.3 按照成膜材料分类 | 第13-14页 |
1.3 离子交换膜选择透过原理 | 第14-16页 |
1.3.1 双电层理论 | 第14页 |
1.3.2 顿南平衡理论 | 第14-15页 |
1.3.3 空穴传导理论 | 第15-16页 |
1.4 膜改性的研究进展 | 第16-19页 |
1.4.1 离子交换膜的表面改性 | 第16-19页 |
1.5 课题背景、研究内容及意义 | 第19-21页 |
1.5.1 课题背景 | 第19页 |
1.5.2 金属钴的重要性 | 第19页 |
1.5.3 传统的钴电积工艺 | 第19-20页 |
1.5.4 新型双膜三室钴电积工艺 | 第20-21页 |
1.5.5 课题研究内容 | 第21页 |
1.5.6 课题的研究意义 | 第21页 |
1.6 实验药品及设备 | 第21-22页 |
1.6.1 改性基膜的选择 | 第21页 |
1.6.2 实验仪器设备 | 第21-22页 |
1.7 膜主要性能指标及其测试方法 | 第22-28页 |
1.7.1 选择透过性测试 | 第23-24页 |
1.7.2 离子交换容量测试 | 第24页 |
1.7.3 亲水性 | 第24-25页 |
1.7.4 抗氧化性测试 | 第25页 |
1.7.5 含水率测试 | 第25-26页 |
1.7.6 微观结构测试 | 第26页 |
1.7.7 膜面电阻测试 | 第26-28页 |
2 等离子体阳离子交换膜改性—等离子体接枝两性离子聚合物 | 第28-36页 |
2.1 实验方法及步骤 | 第28-30页 |
2.1.1 实验方法 | 第28-29页 |
2.1.2 实验步骤 | 第29-30页 |
2.2 改性前后膜FTIR分析 | 第30页 |
2.3 改性前后膜的扫描电镜分析 | 第30-31页 |
2.4 改性前后离子交换膜性能对比 | 第31-32页 |
2.5 实验影响因素分析 | 第32-35页 |
2.5.1 DMAEMA与1,3-丙磺酸内酯的浓度比对接枝效果的影响 | 第32-33页 |
2.5.2 等离子体辐射时间对接枝效果的影响 | 第33页 |
2.5.3 等离子体辐射强度对接枝效果的影响 | 第33-34页 |
2.5.4 等离子辐射气体氛围对接枝效果的影响 | 第34-35页 |
2.6 本章小结 | 第35-36页 |
3 聚合物浸渍法改性离子交换膜 | 第36-44页 |
3.1 实验方法及步骤 | 第36-37页 |
3.1.1 实验方法 | 第36-37页 |
3.1.2 实验步骤 | 第37页 |
3.2 实验影响因素分析 | 第37-40页 |
3.2.1 掺杂介质的选择 | 第37-38页 |
3.2.2 浓度比对氯离子泄漏率的影响 | 第38-39页 |
3.2.3 掺杂介质浓度的确定 | 第39页 |
3.2.4 吡咯反应时间的选择 | 第39-40页 |
3.2.5 氧化聚合时间对氯离子泄漏率影响 | 第40页 |
3.3 改性前后膜的扫描电镜分析(SEM) | 第40-41页 |
3.4 改性前后膜的红外光谱分析(FTIR) | 第41-42页 |
3.5 改性前后离子交换膜的电解寿命测试 | 第42页 |
3.6 本章小结 | 第42-44页 |
4 改性膜在新型膜电积工艺中的应用 | 第44-52页 |
4.1 实验方法 | 第44-45页 |
4.1.1 实验依据 | 第44页 |
4.1.2 实验应用原理 | 第44-45页 |
4.2 改性前后在双膜三室钴电积工艺中的应用效果 | 第45-50页 |
4.2.1 新型钴电积工艺中氯气削减率的研究 | 第45-47页 |
4.2.2 新型钴电积工艺中不同膜组电能消耗测试 | 第47-48页 |
4.2.3 双膜三室工艺应用中膜的稳定性分析 | 第48-50页 |
4.3 不同膜组系统综合分析 | 第50-51页 |
4.4 本章小结 | 第51-52页 |
5 结论 | 第52-54页 |
5.1 实验结果 | 第52-53页 |
5.2 展望 | 第53-54页 |
致谢 | 第54-56页 |
参考文献 | 第56-61页 |
攻读学位期间的研究成果 | 第61页 |