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基于双膜三室钴电积工艺中阳离子交换膜改性

摘要第4-6页
Abstract第6-8页
1 绪论第12-28页
    1.1 离子交换膜概述第12-13页
    1.2 离子交换膜的分类第13-14页
        1.2.1 按照其内部交换基团分类第13页
        1.2.2 按照膜内部交换基团与膜骨架结合的形式分类第13页
        1.2.3 按照成膜材料分类第13-14页
    1.3 离子交换膜选择透过原理第14-16页
        1.3.1 双电层理论第14页
        1.3.2 顿南平衡理论第14-15页
        1.3.3 空穴传导理论第15-16页
    1.4 膜改性的研究进展第16-19页
        1.4.1 离子交换膜的表面改性第16-19页
    1.5 课题背景、研究内容及意义第19-21页
        1.5.1 课题背景第19页
        1.5.2 金属钴的重要性第19页
        1.5.3 传统的钴电积工艺第19-20页
        1.5.4 新型双膜三室钴电积工艺第20-21页
        1.5.5 课题研究内容第21页
        1.5.6 课题的研究意义第21页
    1.6 实验药品及设备第21-22页
        1.6.1 改性基膜的选择第21页
        1.6.2 实验仪器设备第21-22页
    1.7 膜主要性能指标及其测试方法第22-28页
        1.7.1 选择透过性测试第23-24页
        1.7.2 离子交换容量测试第24页
        1.7.3 亲水性第24-25页
        1.7.4 抗氧化性测试第25页
        1.7.5 含水率测试第25-26页
        1.7.6 微观结构测试第26页
        1.7.7 膜面电阻测试第26-28页
2 等离子体阳离子交换膜改性—等离子体接枝两性离子聚合物第28-36页
    2.1 实验方法及步骤第28-30页
        2.1.1 实验方法第28-29页
        2.1.2 实验步骤第29-30页
    2.2 改性前后膜FTIR分析第30页
    2.3 改性前后膜的扫描电镜分析第30-31页
    2.4 改性前后离子交换膜性能对比第31-32页
    2.5 实验影响因素分析第32-35页
        2.5.1 DMAEMA与1,3-丙磺酸内酯的浓度比对接枝效果的影响第32-33页
        2.5.2 等离子体辐射时间对接枝效果的影响第33页
        2.5.3 等离子体辐射强度对接枝效果的影响第33-34页
        2.5.4 等离子辐射气体氛围对接枝效果的影响第34-35页
    2.6 本章小结第35-36页
3 聚合物浸渍法改性离子交换膜第36-44页
    3.1 实验方法及步骤第36-37页
        3.1.1 实验方法第36-37页
        3.1.2 实验步骤第37页
    3.2 实验影响因素分析第37-40页
        3.2.1 掺杂介质的选择第37-38页
        3.2.2 浓度比对氯离子泄漏率的影响第38-39页
        3.2.3 掺杂介质浓度的确定第39页
        3.2.4 吡咯反应时间的选择第39-40页
        3.2.5 氧化聚合时间对氯离子泄漏率影响第40页
    3.3 改性前后膜的扫描电镜分析(SEM)第40-41页
    3.4 改性前后膜的红外光谱分析(FTIR)第41-42页
    3.5 改性前后离子交换膜的电解寿命测试第42页
    3.6 本章小结第42-44页
4 改性膜在新型膜电积工艺中的应用第44-52页
    4.1 实验方法第44-45页
        4.1.1 实验依据第44页
        4.1.2 实验应用原理第44-45页
    4.2 改性前后在双膜三室钴电积工艺中的应用效果第45-50页
        4.2.1 新型钴电积工艺中氯气削减率的研究第45-47页
        4.2.2 新型钴电积工艺中不同膜组电能消耗测试第47-48页
        4.2.3 双膜三室工艺应用中膜的稳定性分析第48-50页
    4.3 不同膜组系统综合分析第50-51页
    4.4 本章小结第51-52页
5 结论第52-54页
    5.1 实验结果第52-53页
    5.2 展望第53-54页
致谢第54-56页
参考文献第56-61页
攻读学位期间的研究成果第61页

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