铱薄膜及钼薄膜的电容爆丝沉积方法研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-19页 |
| 1.1 课题背景及研究意义 | 第8-9页 |
| 1.2 铱薄膜的应用及其制备 | 第9-13页 |
| 1.2.1 铱薄膜的应用 | 第9-11页 |
| 1.2.2 铱涂层的制备 | 第11-13页 |
| 1.3 钼薄膜的应用及其制备 | 第13-15页 |
| 1.3.1 钼薄膜的应用 | 第13-14页 |
| 1.3.2 钼薄膜的制备 | 第14-15页 |
| 1.4 电容爆丝沉积 | 第15-18页 |
| 1.4.1 电容爆丝沉积原理及其特点 | 第16-17页 |
| 1.4.2 电容爆丝沉积工艺参数 | 第17页 |
| 1.4.3 电容爆丝沉积研究现状 | 第17-18页 |
| 1.5 本文研究的内容 | 第18-19页 |
| 第2章 试验材料、设备和分析方法 | 第19-28页 |
| 2.1 引言 | 第19页 |
| 2.2 实验材料 | 第19-20页 |
| 2.2.1 基体 | 第19-20页 |
| 2.2.2 薄膜材料 | 第20页 |
| 2.3 试验设备及工艺 | 第20-25页 |
| 2.3.1 研制试验设备 | 第20-24页 |
| 2.3.2 薄膜的制备工艺 | 第24-25页 |
| 2.4 电容爆丝过程 | 第25-26页 |
| 2.5 薄膜组织结构分析 | 第26-27页 |
| 2.5.1 X射线衍射分析 | 第26页 |
| 2.5.2 光学显微镜分析 | 第26页 |
| 2.5.3 扫描电子显微镜分析 | 第26页 |
| 2.5.4 表面粗糙度分析 | 第26-27页 |
| 2.5.5 X射线光电子谱分析 | 第27页 |
| 2.6 薄膜性能测试 | 第27-28页 |
| 2.6.1 薄膜表面硬度测试 | 第27页 |
| 2.6.2 薄膜电阻测试 | 第27-28页 |
| 第3章 爆丝能量因素分析 | 第28-36页 |
| 3.1 电容爆丝过程 | 第28-30页 |
| 3.2 爆丝能量影响因素 | 第30-35页 |
| 3.2.1 充电电压对爆丝能量的影响 | 第30-32页 |
| 3.2.2 气压对爆丝能量的影响 | 第32页 |
| 3.2.3 回路电感对爆丝能量的影响 | 第32-35页 |
| 3.3 本章小结 | 第35-36页 |
| 第4章 薄膜结构及形貌分析 | 第36-51页 |
| 4.1 钼薄膜结构及形貌分析 | 第36-43页 |
| 4.1.1 钼薄膜结构分析 | 第36-37页 |
| 4.1.2 钼薄膜表面形貌分析 | 第37-42页 |
| 4.1.3 钼薄膜断面形貌分析 | 第42-43页 |
| 4.2 铱薄膜结构及形貌分析 | 第43-47页 |
| 4.2.1 铱薄膜结构分析 | 第43-44页 |
| 4.2.2 铱薄膜表面形貌分析 | 第44-47页 |
| 4.3 退火后铱薄膜形貌组织变化 | 第47-49页 |
| 4.4 本章小结 | 第49-51页 |
| 第5章 薄膜性能研究 | 第51-59页 |
| 5.1 钼薄膜性能研究 | 第51-55页 |
| 5.1.1 钼薄膜纳米硬度研究 | 第51-53页 |
| 5.1.2 钼薄膜电学性能研究 | 第53-55页 |
| 5.2 铱薄膜性能研究 | 第55-58页 |
| 5.2.1 退火前铱薄膜试样纳米硬度研究 | 第55-56页 |
| 5.2.2 退火后铱薄膜试样纳米硬度研究 | 第56-58页 |
| 5.3 本章小结 | 第58-59页 |
| 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
