CO分子在Cu(Ⅲ)表面吸附及Cl原子在硅烯表面吸附的STM研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 物理吸附与化学吸附 | 第11-12页 |
| 1.3 CO在Cu（Ⅲ）上的吸附 | 第12-15页 |
| 1.4 氢的吸附 | 第15-16页 |
| 1.5 本论文的研究意义 | 第16-18页 |
| 第二章 实验技术和原理 | 第18-26页 |
| 2.1 实验仪器简介 | 第18页 |
| 2.2 超高真空技术 | 第18-19页 |
| 2.3 分子束外延技术 | 第19-21页 |
| 2.4 扫描隧道显微镜 | 第21-24页 |
| 2.4.1 扫描隧道显微镜的基本原理 | 第21-22页 |
| 2.4.2 隧道电流理论 | 第22-23页 |
| 2.4.3 扫描隧道谱 | 第23页 |
| 2.4.4 针尖的制作方法 | 第23-24页 |
| 2.5 低温技术 | 第24-26页 |
| 第三章 CO在Cu（Ⅲ）上的吸附 | 第26-38页 |
| 3.1 CO在Cu（Ⅲ）上的吸附STM研究现状 | 第26-27页 |
| 3.2 实验方法 | 第27-32页 |
| 3.3 液氮下CO在Cu（Ⅲ）的吸附结构 | 第32-34页 |
| 3.4 液氦下CO在Cu（Ⅲ）的吸附结构 | 第34-36页 |
| 3.5 本章小结 | 第36-38页 |
| 第四章 Cl原子在硅烯表面吸附的STM研究 | 第38-48页 |
| 4.1 实验方法 | 第39-42页 |
| 4.2 低覆盖度下Cl原子在硅烯上的吸附 | 第42-44页 |
| 4.3 Cl原子在硅烯上的饱和吸附 | 第44-46页 |
| 4.4 本章小结 | 第46-48页 |
| 第五章 总结和展望 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
