基于随机裂缝掩模的金属网栅透明导电膜研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第10-11页 |
| 1.2 透明导电膜技术的国内外研究现状与发展趋势 | 第11-17页 |
| 1.2.1 超薄金属透明导电膜 | 第12页 |
| 1.2.2 石墨烯透明导电膜 | 第12-13页 |
| 1.2.3 无模板的网状透明导电膜 | 第13-14页 |
| 1.2.4 基于模板的网状透明导电膜 | 第14-17页 |
| 1.3 本文的主要研究内容 | 第17-18页 |
| 1.4 课题的科学价值和潜在应用前景 | 第18-20页 |
| 第2章 裂缝掩模的形成机理分析 | 第20-35页 |
| 2.1 引言 | 第20页 |
| 2.2 分散系薄膜的干燥过程 | 第20-21页 |
| 2.3 分散系薄膜产生裂缝分析 | 第21-30页 |
| 2.3.1 薄膜产生裂缝的条件 | 第22-23页 |
| 2.3.2 薄膜干燥过程中产生裂缝的模型 | 第23-30页 |
| 2.4 分散系薄膜厚度的影响 | 第30-34页 |
| 2.4.1 临界厚度预测 | 第30-31页 |
| 2.4.2 裂缝间距与薄膜厚度关系 | 第31-33页 |
| 2.4.3 裂缝网络的样式 | 第33-34页 |
| 2.5 本章小结 | 第34-35页 |
| 第3章 基于裂缝掩模制作金属网栅透明导电膜 | 第35-50页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 分散系的选择 | 第35-41页 |
| 3.2.1 不同分散系裂缝效果比较 | 第35-38页 |
| 3.2.2 薄膜产生裂缝的临界厚度 | 第38页 |
| 3.2.3 薄膜厚度对裂缝掩模的影响 | 第38-41页 |
| 3.3 基于裂缝模板制作透明导电膜的工艺流程 | 第41-47页 |
| 3.3.1 裂缝掩模制备 | 第41-43页 |
| 3.3.2 金属层沉积 | 第43-46页 |
| 3.3.3 掩模层去除 | 第46-47页 |
| 3.4 金属网栅透明导电膜实验样片制作 | 第47-49页 |
| 3.4.1 样片宏观照片 | 第47-48页 |
| 3.4.2 样片微细结构 | 第48-49页 |
| 3.5 本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 金属网栅透明导电膜的性能分析 | 第50-68页 |
| 4.1 引言 | 第50页 |
| 4.2 电学性能测试与分析 | 第50-54页 |
| 4.2.1 四探针法测电阻 | 第51页 |
| 4.2.2 改进四端测试法测电阻 | 第51-52页 |
| 4.2.3 金属网栅透明导电膜方阻测试 | 第52-54页 |
| 4.3 光学性能测试与分析 | 第54-61页 |
| 4.3.1 光学透过率 | 第54-57页 |
| 4.3.2 杂散光分布 | 第57-61页 |
| 4.4 微波屏蔽效率测试与分析 | 第61-67页 |
| 4.4.1 电磁屏蔽效率测试 | 第61-63页 |
| 4.4.2 电磁屏蔽效率模型计算分析 | 第63-67页 |
| 4.5 本章小结 | 第67-68页 |
| 结论 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第74-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
