L波段可调滤波器的制作与优化
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 可调滤波器分类及工作原理 | 第11-15页 |
| 1.2.1 机械调谐滤波器 | 第12页 |
| 1.2.2 YIG调谐滤波器 | 第12-13页 |
| 1.2.3 MEMS调谐滤波器 | 第13-14页 |
| 1.2.4 变容二极管调谐滤波器 | 第14-15页 |
| 1.2.5 铁电调谐滤波器 | 第15页 |
| 1.3 铁电可调滤波器研究现状 | 第15-18页 |
| 1.4 本文的研究内容 | 第18-19页 |
| 第二章 BST薄膜制备与性能研究 | 第19-33页 |
| 2.1 BST材料结构与性能 | 第19-21页 |
| 2.2 BST薄膜制备技术及特点 | 第21-23页 |
| 2.2.1 溶胶-凝胶法 | 第21-22页 |
| 2.2.2 脉冲激光沉积法 | 第22页 |
| 2.2.3 金属有机化学气相沉积法 | 第22-23页 |
| 2.2.4 磁控溅射法 | 第23页 |
| 2.3 BST薄膜电容制备 | 第23-29页 |
| 2.3.1 BST铁电薄膜制备 | 第24-27页 |
| 2.3.2 BST铁电薄膜电容制备工艺 | 第27-29页 |
| 2.4 BST铁电薄膜性能测试 | 第29-32页 |
| 2.5 小结 | 第32-33页 |
| 第三章 可调滤波器制作工艺研究 | 第33-49页 |
| 3.1 光刻工艺简述 | 第33-37页 |
| 3.1.1 光刻工艺基本流程 | 第33-34页 |
| 3.1.2 接触式光刻工艺 | 第34-35页 |
| 3.1.3 光刻胶物理性质对器件的影响 | 第35-36页 |
| 3.1.4 刻蚀工艺对器件的影响 | 第36-37页 |
| 3.2 BST铁电薄膜可调滤波器工艺流程 | 第37-38页 |
| 3.3 BST 铁电薄膜变容管介质层制备 | 第38-41页 |
| 3.4上电极的制备 | 第41-48页 |
| 3.4.1 上电极金属层的制备 | 第41-42页 |
| 3.4.2 上电极的图形化与加厚 | 第42-48页 |
| 3.5 小结 | 第48-49页 |
| 第四章 可调滤波器测试与优化 | 第49-62页 |
| 4.1 可调滤波器的实际结构 | 第49页 |
| 4.2 铁电薄膜可调滤波器的测试与分析 | 第49-58页 |
| 4.2.0 铁电薄膜可调滤波器的封装与测试方法 | 第49-51页 |
| 4.2.1 铁电薄膜电容低频测试与分析 | 第51-52页 |
| 4.2.2 可调滤波器测试与分析 | 第52-58页 |
| 4.3 可调滤波器的结构优化 | 第58-61页 |
| 4.4 小结 | 第61-62页 |
| 第五章 集总LC可调滤波器设计 | 第62-75页 |
| 5.1 集总元件滤波器设计原理 | 第62-63页 |
| 5.2 滤波器的电路结构设计 | 第63-66页 |
| 5.3 滤波器的物理结构设计 | 第66-72页 |
| 5.3.1 集总电感的结构 | 第66-69页 |
| 5.3.2 谐振单元的结构 | 第69-70页 |
| 5.3.3 滤波器的基本结构 | 第70-72页 |
| 5.4 滤波器的整体仿真及调谐 | 第72-73页 |
| 5.5 小结 | 第73-75页 |
| 第六章 结论 | 第75-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-82页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第82-83页 |
