| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-20页 |
| 1.1 研究背景 | 第8页 |
| 1.2 光催化理论简介 | 第8-14页 |
| 1.2.1 光催化技术的基本原理 | 第8-10页 |
| 1.2.2 光催化分解水对半导体材料的要求 | 第10页 |
| 1.2.3 提高光催化效率的方法 | 第10-14页 |
| 1.3 石墨烯和二硫化钼基半导体光催化剂的概述 | 第14-18页 |
| 1.3.1 石墨烯和二硫化钼的简介 | 第14-16页 |
| 1.3.2 石墨烯和二硫化钼基半导体复合材料的研究进展 | 第16-18页 |
| 1.4 本文选题意义与工作内容 | 第18-20页 |
| 第2章 GO/MoS_2/ZnS 的制备及表征 | 第20-35页 |
| 2.1 实验部分 | 第20-24页 |
| 2.1.1 主要试剂和仪器 | 第20-21页 |
| 2.1.2 氧化石墨烯的制备 | 第21页 |
| 2.1.3 MoS_2纳米片层的制备 | 第21-22页 |
| 2.1.4 GO/MoS_2/ZnS 复合材料的制备 | 第22页 |
| 2.1.5 材料的测试与表征 | 第22-23页 |
| 2.1.6 光分解水制氢性能测试 | 第23-24页 |
| 2.2 结果与讨论 | 第24-34页 |
| 2.2.1 复合材料的 XRD 分析 | 第24页 |
| 2.2.2 复合材料的形貌分析 | 第24-26页 |
| 2.2.3 复合材料的氮气吸附-脱附曲线 | 第26-27页 |
| 2.2.4 复合材料的 UV-Vis DRS 谱 | 第27-28页 |
| 2.2.5 复合材料的 Raman 光谱 | 第28-29页 |
| 2.2.6 复合材料的 XPS 谱 | 第29-30页 |
| 2.2.7 复合材料的光电流 | 第30-31页 |
| 2.2.8 复合材料的光解水制氢活性 | 第31-34页 |
| 2.3 结论 | 第34-35页 |
| 第3章 GO/MoS_2/CdS 的制备及表征 | 第35-47页 |
| 3.1 实验部分 | 第35-36页 |
| 3.1.1 主要试剂和仪器 | 第35-36页 |
| 3.1.2 GO/MoS_2/CdS 复合材料的制备 | 第36页 |
| 3.1.3 材料的测试与表征 | 第36页 |
| 3.1.4 复合材料的光催化性能评价 | 第36页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第36-46页 |
| 3.2.1 复合材料的 XRD 分析 | 第36-37页 |
| 3.2.2 复合材料的形貌分析 | 第37-38页 |
| 3.2.3 复合材料的氮气吸附-脱附曲线 | 第38-40页 |
| 3.2.4 复合材料的 UV-Vis DRS 谱 | 第40页 |
| 3.2.5 复合材料的 Raman 光谱 | 第40-41页 |
| 3.2.6 复合材料的 XPS 谱 | 第41-43页 |
| 3.2.7 复合材料的光电流 | 第43-44页 |
| 3.2.8 复合材料的光解水制氢活性 | 第44-46页 |
| 3.3 结论 | 第46-47页 |
| 第4章 GO/MoS_2/Cd_xZn_(1-x)S 的制备及表征 | 第47-61页 |
| 4.1 实验部分 | 第47-48页 |
| 4.1.1 主要试剂和仪器 | 第47页 |
| 4.1.2 GO/MoS_2/Cd_xZn_(1-x)S 复合材料的制备 | 第47-48页 |
| 4.1.3 材料的测试与表征 | 第48页 |
| 4.1.4 复合材料的光催化性能评价 | 第48页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第48-59页 |
| 4.2.1 复合材料的 XRD 分析 | 第48-49页 |
| 4.2.2 复合材料的形貌分析 | 第49-51页 |
| 4.2.3 复合材料的氮气吸附-脱附曲线 | 第51-52页 |
| 4.2.4 复合材料的 UV-Vis DRS 谱 | 第52-53页 |
| 4.2.5 复合材料的 Raman 光谱 | 第53-54页 |
| 4.2.6 复合材料的 XPS 谱 | 第54-56页 |
| 4.2.7 复合材料的光电流 | 第56-57页 |
| 4.2.8 复合材料的光解水制氢活性 | 第57-59页 |
| 4.3 结论 | 第59-61页 |
| 第5章 总结 | 第61-63页 |
| 5.1 本文工作的主要结论 | 第61-62页 |
| 5.2 论文的主要创新点和贡献 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文 | 第73页 |
