| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第13-25页 |
| 1.1 引言 | 第13页 |
| 1.2 原子力显微镜简介 | 第13-19页 |
| 1.2.1 原子力显微镜原理及工作模式 | 第13-15页 |
| 1.2.2 原子力显微镜功能及应用 | 第15-18页 |
| 1.2.3 环境可控型原子力显微镜应用局限性 | 第18-19页 |
| 1.3 多探针切换装置研究现状 | 第19-21页 |
| 1.4 本文选题意义及研究内容 | 第21-25页 |
| 1.4.1 本文选题意义 | 第21-22页 |
| 1.4.2 本文研究内容 | 第22-25页 |
| 第2章 直线式多探针切换装置设计、优化及实验方法 | 第25-33页 |
| 2.1 装置主体设计 | 第25-27页 |
| 2.2 装置优化 | 第27-30页 |
| 2.2.1 探针夹具优化 | 第27-29页 |
| 2.2.2 腔体配合优化 | 第29-30页 |
| 2.3 可控气氛下多功能实验方法 | 第30-31页 |
| 2.4 本章小结 | 第31-33页 |
| 第3章 实验设备及实验方法 | 第33-42页 |
| 3.1 实验材料 | 第33-34页 |
| 3.1.1 单晶硅 | 第33-34页 |
| 3.1.2 KDP晶体 | 第34页 |
| 3.2 实验设备和方法 | 第34-39页 |
| 3.2.1 搭配直线式多探针切换装置的原子力显微镜 | 第34-37页 |
| 3.2.2 抛光机 | 第37-39页 |
| 3.3 实验数据获取 | 第39-41页 |
| 3.3.1 粘着力的测量 | 第39-40页 |
| 3.3.2 探针悬臂梁弹性系数标定 | 第40页 |
| 3.3.3 材料去除速率测定 | 第40-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 直线式多探针切换装置性能测试 | 第42-53页 |
| 4.1 装置性能测试的重要性及影响因素 | 第42-43页 |
| 4.2 形貌扫描功能测试 | 第43-45页 |
| 4.2.1 形貌扫描功能测试方法 | 第43页 |
| 4.2.2 形貌扫描功能测试结果 | 第43-45页 |
| 4.3 微观摩擦磨损功能测试 | 第45-48页 |
| 4.3.1 微观摩擦磨损功能测试方法 | 第45页 |
| 4.3.2 微观摩擦磨损功能测试结果 | 第45-48页 |
| 4.4 多探针切换功能测试 | 第48-52页 |
| 4.4.1 不同相对湿度下不同功能实验 | 第48-50页 |
| 4.4.2 不同气氛下不同功能实验 | 第50-52页 |
| 4.5 本章小结 | 第52-53页 |
| 第5章 装置在环境敏感材料KDP晶体微观材料去除研究中的进一步应用 | 第53-69页 |
| 5.1 KDP晶体研究背景 | 第53-55页 |
| 5.1.1 KDP晶体应用背景 | 第53-54页 |
| 5.1.2 KDP晶体研究目的及意义 | 第54-55页 |
| 5.2 KDP晶体超光滑表面制备 | 第55-60页 |
| 5.2.1 不同含水量抛光液对KDP晶体材料去除速率和表面形貌的影响 | 第55-59页 |
| 5.2.2 KDP晶体抛光后表面清洗 | 第59-60页 |
| 5.2.3 小结 | 第60页 |
| 5.3 同一湿度环境下保持时间对KDP晶体微观材料去除的影响规律 | 第60-64页 |
| 5.3.1 同一湿度环境下磨损前保持时间对KDP晶体微观材料去除的影响规律 | 第60-62页 |
| 5.3.2 同一湿度环境下磨损后保持时间对KDP晶体微观材料去除的影响规律 | 第62-64页 |
| 5.4 不同相对湿度对KDP晶体微观材料去除的影响规律 | 第64-66页 |
| 5.4.1 KDP晶体材料去除表面形貌随相对湿度变化规律 | 第64-65页 |
| 5.4.2 KDP晶体材料去除体积随相对湿度变化规律 | 第65-66页 |
| 5.5 湿度环境对KDP晶体微观材料去除机理探讨 | 第66-68页 |
| 5.6 本章小结 | 第68-69页 |
| 结论与展望 | 第69-72页 |
| 主要结论 | 第69-71页 |
| 研究展望 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及科研成果 | 第78页 |
