| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-12页 |
| 1.1 椭偏术的产生、发展和现状 | 第9-10页 |
| 1.2 椭偏术的特点 | 第10-11页 |
| 1.3 椭偏术的最新进展 | 第11-12页 |
| 第二章 椭偏术的应用 | 第12-19页 |
| 2.1 材料光学性质的测定 | 第12-14页 |
| 2.1.1 体型材料的光学性质 | 第12-13页 |
| 2.1.2 薄膜材料的光学性质 | 第13-14页 |
| 2.2 物理吸附和化学吸附 | 第14-16页 |
| 2.3 生物学和医学方面的应用 | 第16-17页 |
| 2.4 各种膜的测定 | 第17-19页 |
| 2.4.1 测量硅片上氧化膜的生长曲线 | 第17-18页 |
| 2.4.2 测定硅中杂质的分布 | 第18-19页 |
| 第三章 反射椭偏术基本理论的研究 | 第19-30页 |
| 3.1 引言 | 第19-20页 |
| 3.2 光波的偏振 | 第20-21页 |
| 3.3 反射椭偏术的基本理论 | 第21-30页 |
| 3.3.1 两种各向同性媒质间平面界面处光的反射 | 第22-25页 |
| 3.3.2 环境媒质—透明薄膜—基片系统的反射椭偏术的理论研究 | 第25-30页 |
| 第四章 反射椭偏术测量理论的研究 | 第30-48页 |
| 4.1 PQSA 式椭偏仪光学系统的琼斯矩阵表示 | 第30-35页 |
| 4.1.1 λ/ 4 波片、检偏器的琼斯矩阵及薄膜的等效琼斯矩阵 | 第31-33页 |
| 4.1.2 偏振光波在PQSA 系统中的传播 | 第33-35页 |
| 4.2 消光法的测量原理 | 第35-48页 |
| 4.2.1 ψ和△测量公式的推导 | 第36-40页 |
| 4.2.2 一次或多次测量原理 | 第40-48页 |
| 第五章 椭偏仪测控系统的硬件和软件设计 | 第48-76页 |
| 5.1 仪器系统的总体方案 | 第48-51页 |
| 5.2 硬件电路的设计 | 第51-64页 |
| 5.2.1 C8051F020 单片机 | 第52-55页 |
| 5.2.2 步进电机控制及驱动电路设计 | 第55-58页 |
| 5.2.3 驱动板和计算机接口电路设计 | 第58-61页 |
| 5.2.4 驱动板上的其他部分 | 第61-64页 |
| 5.3 椭偏测量的软件设计 | 第64-76页 |
| 5.3.1 透明薄膜椭偏方程的数值反演算法 | 第64-74页 |
| 5.3.2 椭偏测量计算的软件设计 | 第74-76页 |
| 第六章 实验结果 | 第76-84页 |
| 6.1 薄膜厚度周期的测定 | 第76-78页 |
| 6.2 椭偏仪的调整及数据处理 | 第78-79页 |
| 6.3 误差分析 | 第79-80页 |
| 6.4 实验结果 | 第80-84页 |
| 第七章 总结 | 第84-86页 |
| 参考文献 | 第86-88页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第88-89页 |
| 附录 | 第89-98页 |
| 致谢 | 第98页 |