| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 透明导电薄膜概述 | 第10页 |
| 1.2 AZO 薄膜的特性 | 第10-14页 |
| 1.2.1 AZO 薄膜的导电机制 | 第10-11页 |
| 1.2.2 AZO 薄膜的电学特性影响因素 | 第11页 |
| 1.2.3 AZO 薄膜的光学特性影响因素 | 第11页 |
| 1.2.4 AZO 薄膜的研究现状 | 第11-14页 |
| 1.3 磁控溅射技术制备AZO 薄膜 | 第14-17页 |
| 1.3.1 磁控溅射技术历史与现状 | 第14页 |
| 1.3.2 磁控溅射法制备AZO 薄膜的基本原理 | 第14-15页 |
| 1.3.3 溅射制备AZO 薄膜的技术优势 | 第15页 |
| 1.3.4 溅射工艺参数对AZO 薄膜的影响[37-42] | 第15-17页 |
| 1.4 溅射制备Al、H 共掺ZnO 薄膜的研究现状 | 第17-19页 |
| 1.5 研究目的，研究内容 | 第19-20页 |
| 第二章 衬底温度和膜厚对AZO 薄膜结构和光电学性能的影响 | 第20-35页 |
| 2.1 引言 | 第20页 |
| 2.2 实验过程 | 第20-22页 |
| 2.2.1 靶材的制备 | 第20页 |
| 2.2.2 衬底的清洗 | 第20-21页 |
| 2.2.3 溅射工艺过程 | 第21页 |
| 2.2.4 实验参数 | 第21-22页 |
| 2.2.5 材料性能测试 | 第22页 |
| 2.3 实验结果分析 | 第22-33页 |
| 2.3.1 AZO 薄膜的结构特征 | 第22-29页 |
| 2.3.2 AZO 薄膜的电学性能 | 第29-30页 |
| 2.3.3 AZO 薄膜的透光特性 | 第30-33页 |
| 2.4 本章小结 | 第33-35页 |
| 第三章 衬底温度和H_2含量对AZO 薄膜结构和电光学性能的影响 | 第35-49页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 实验过程 | 第35-36页 |
| 3.3 实验结果与分析 | 第36-48页 |
| 3.3.1 AZO 薄膜的结构特征 | 第36-43页 |
| 3.3.2 AZO 薄膜的电学性能 | 第43-45页 |
| 3.3.3 AZO 薄膜的透光特性 | 第45-48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 Al、H 共掺杂ZnO 薄膜的结构和光电学特性的优化研究 | 第49-63页 |
| 4.1 引言 | 第49页 |
| 4.2 实验过程 | 第49-50页 |
| 4.3 实验结果与分析 | 第50-62页 |
| 4.3.1 溅射气压对Al、H 共掺杂ZnO 薄膜的性能影响 | 第50-53页 |
| 4.3.2 溅射功率对Al、H 共掺杂ZnO 薄膜的性能影响 | 第53-56页 |
| 4.3.3 膜厚对Al、H 共掺杂ZnO 薄膜的性能影响 | 第56-62页 |
| 4.4 本章小结 | 第62-63页 |
| 第五章 全文总结 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 攻读硕士学位期间完成的学术论文 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
