| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 THz 波的特殊性质 | 第9-10页 |
| 1.3 THz 波的应用 | 第10-14页 |
| 1.3.1 THz 频谱分析 | 第10-12页 |
| 1.3.2 THz 成像 | 第12-13页 |
| 1.3.3 THz 通信 | 第13-14页 |
| 1.4 THz 调制手段 | 第14-17页 |
| 1.4.1 全光调制 | 第14-15页 |
| 1.4.2 电学调制 | 第15-16页 |
| 1.4.3 温度调制 | 第16-17页 |
| 1.4.4 其他调制手段 | 第17页 |
| 1.5 本论文的主要工作 | 第17-19页 |
| 第二章 THz 波段的材料特征参数提取 | 第19-35页 |
| 2.1 THz 时域频谱技术(THz-TDS) | 第19-22页 |
| 2.1.1 光整流法产生 THz 波 | 第20-21页 |
| 2.1.2 电光取样法探测 THz 波 | 第21-22页 |
| 2.2 THz-TDS 系统对材料参数的提取 | 第22-34页 |
| 2.2.1 块状晶体 | 第23-30页 |
| 2.2.2 薄膜材料 | 第30-34页 |
| 2.3 本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 VO_2薄膜的制备及其相变特性的研究 | 第35-46页 |
| 3.1 VO_2的相变特性 | 第35页 |
| 3.2 VO_2薄膜的制备 | 第35-37页 |
| 3.3 研究 VO_2薄膜的 THz-TDS 系统 | 第37-38页 |
| 3.4 结果分析 | 第38-45页 |
| 3.4.1 光致相变 | 第38-43页 |
| 3.4.2 XRD 图分析 | 第43-44页 |
| 3.4.3 热致相变 | 第44-45页 |
| 3.5 本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 基于 VO_2薄膜的 THz 波表面等离子激元调制器件 | 第46-62页 |
| 4.1 金属-介质表面的 SPP | 第46-49页 |
| 4.2 SPP 的色散关系与激发 | 第49-50页 |
| 4.3 亚波长金属孔阵列 | 第50-60页 |
| 4.3.1 结构模拟 | 第51-57页 |
| 4.3.2 样品制作 | 第57页 |
| 4.3.3 实验结果 | 第57-60页 |
| 4.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 总结与展望 | 第62-64页 |
| 5.1 总结 | 第62-63页 |
| 5.2 展望 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-71页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |