| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第7-11页 |
| 1.1 项目背景 | 第7页 |
| 1.2 国内外发展趋势 | 第7-8页 |
| 1.3 装置简介 | 第8-9页 |
| 1.3.1 装置建设规模 | 第8页 |
| 1.3.2 装置组成 | 第8页 |
| 1.3.3 控制现状 | 第8-9页 |
| 1.4 解决方案 | 第9-11页 |
| 第二章 动态矩阵控制与 DMC Plus 介绍 | 第11-25页 |
| 2.1 预测控制的基本原理 | 第11-13页 |
| 2.1.1 预测模型 | 第11-12页 |
| 2.1.2 滚动优化 | 第12-13页 |
| 2.1.3 反馈校正 | 第13页 |
| 2.2 动态矩阵控制(DMC)的基本原理 | 第13-16页 |
| 2.2.1 预测模型 | 第13-15页 |
| 2.2.2 反馈校正 | 第15页 |
| 2.2.3 滚动优化 | 第15-16页 |
| 2.3 DMC Plus 介绍 | 第16-25页 |
| 2.3.1 基本术语 | 第16页 |
| 2.3.2 功能介绍 | 第16-17页 |
| 2.3.3 DMC Plus 运行原理 | 第17-22页 |
| 2.3.4 DMC Plus 控制器的特点 | 第22-25页 |
| 第三章 APC 系统平台构建 | 第25-31页 |
| 3.1 OPC 技术概述 | 第25-26页 |
| 3.2 DCS 系统简介 | 第26-29页 |
| 3.2.1 Human Interface Station(HIS)操作站 | 第26-27页 |
| 3.2.2 Field Control Station(FCS)现场控制 | 第27-28页 |
| 3.2.3 Engineering Station(EWS)工程师站 | 第28页 |
| 3.2.4 V net／IP控制总线 | 第28页 |
| 3.2.5 Ethernet | 第28页 |
| 3.2.6 系统特点 | 第28-29页 |
| 3.3 APC 系统平台建立 | 第29-31页 |
| 第四章 APC 控制器设计及离线仿真 | 第31-49页 |
| 4.1 工艺现状与工艺过程分析 | 第31-34页 |
| 4.1.1 工艺路线和方案 | 第31-33页 |
| 4.1.2 过程控制分析 | 第33-34页 |
| 4.2 APC 控制器设计 | 第34-37页 |
| 4.2.1 总体目标和实施范围 | 第34页 |
| 4.2.2 系统体系概要 | 第34-35页 |
| 4.2.3 反再分馏控制器 | 第35-36页 |
| 4.2.4 吸收稳定控制器 | 第36-37页 |
| 4.3 控制器模型建立 | 第37-41页 |
| 4.3.1 数据采集 | 第37-39页 |
| 4.3.2 模型辨识 | 第39-41页 |
| 4.4 软仪表的建立 | 第41-45页 |
| 4.4.1 Aspen IQ 简介 | 第41-44页 |
| 4.4.2 相关工艺计算 | 第44-45页 |
| 4.5 离线仿真 | 第45-49页 |
| 4.5.1 反再分馏控制器 | 第45-47页 |
| 4.5.2 吸收稳定控制器 | 第47-48页 |
| 4.5.3 离线仿真结果分析 | 第48-49页 |
| 第五章 试投用分析 | 第49-59页 |
| 5.1 操作界面建立 | 第49-53页 |
| 5.1.1 Web Viewer 方式 | 第49-50页 |
| 5.1.2 DCS 方式 | 第50-53页 |
| 5.2 先进控制投用前/后工况对比 | 第53-57页 |
| 5.3 效果分析 | 第57-59页 |
| 第六章 结论与展望 | 第59-60页 |
| 6.1 结论 | 第59页 |
| 6.2 展望 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-63页 |
