镁合金微弧氧化及其复合膜的制备及性能研究
摘要 | 第3-6页 |
ABSTRACT | 第6-9页 |
第一章 绪论 | 第13-23页 |
1.1 镁合金的特点和应用 | 第13-14页 |
1.1.1 镁合金的特性 | 第13页 |
1.1.2 镁合金的应用 | 第13-14页 |
1.2 传统镁合金的表面处理技术 | 第14-17页 |
1.2.1 阳极氧化 | 第14-15页 |
1.2.2 化学转化膜处理 | 第15页 |
1.2.3 气相沉积转化膜 | 第15-16页 |
1.2.4 金属涂镀处理 | 第16页 |
1.2.5 其他表面处理方法 | 第16-17页 |
1.3 微弧氧化技术 | 第17-20页 |
1.3.1 微弧氧化技术的研究现状 | 第17-18页 |
1.3.2 微弧氧化技术的工艺特点 | 第18页 |
1.3.3 微弧氧化技术的影响因素 | 第18-19页 |
1.3.4 微弧氧化技术的应用前景 | 第19-20页 |
1.4 微弧氧化后处理 | 第20页 |
1.5 本文的提出及主要研究内容 | 第20-23页 |
1.5.1 本课题提出 | 第20-21页 |
1.5.2 主要研究内容 | 第21-23页 |
第二章 实验方案与设备 | 第23-29页 |
2.1 实验材料与药品 | 第23-24页 |
2.1.1 基体材料 | 第23页 |
2.1.2 实验试剂 | 第23-24页 |
2.2 实验装置 | 第24-25页 |
2.3 实验方法 | 第25-26页 |
2.3.1 基体前处理及工艺路线 | 第25页 |
2.3.2 实验方案 | 第25-26页 |
2.4 实验所用表征方法 | 第26-29页 |
2.4.1 表面微观形貌观察 | 第26页 |
2.4.2 微弧氧化膜层的相和化学元素组成 | 第26页 |
2.4.3 膜层厚度测试 | 第26-27页 |
2.4.4 腐蚀性能测试 | 第27页 |
2.4.5 膜层的光催化性能测试 | 第27-28页 |
2.4.6 磨损性能检测 | 第28-29页 |
第三章 微弧氧化膜的生长特性 | 第29-35页 |
3.1 恒流模式下电压随时间的变化曲线 | 第29-30页 |
3.2 不同电流下电压变化规律 | 第30-31页 |
3.3 微弧氧化的生长阶段 | 第31-32页 |
3.4 微弧氧化膜的截面变化规律 | 第32-33页 |
3.5 小结 | 第33-35页 |
第四章 氧化时间对微弧氧化膜的影响 | 第35-49页 |
4.1 氧化时间对表面形貌的影响 | 第35-36页 |
4.2 微弧氧化膜的相组成 | 第36-38页 |
4.3 微弧氧化膜的EDS分析 | 第38-39页 |
4.4 氧化时间对截面厚度的影响 | 第39-41页 |
4.5 氧化时间对耐蚀性能的影响 | 第41-42页 |
4.6 氧化时间对磨损性能的影响 | 第42-47页 |
4.6.1 摩擦系数 | 第42-44页 |
4.6.2 磨痕形貌 | 第44-45页 |
4.6.3 磨损率 | 第45-47页 |
4.7 小结 | 第47-49页 |
第五章 电流密度对微弧氧化膜的影响 | 第49-57页 |
5.1 电流密度对表面形貌的影响 | 第49-50页 |
5.2 电流密度对截面厚度的影响 | 第50-52页 |
5.3 电流密度对相组成的影响 | 第52-53页 |
5.4 电流密度对氧化膜EDS的影响 | 第53页 |
5.5 电流密度对耐蚀性能的影响 | 第53-55页 |
5.6 小结 | 第55-57页 |
第六章 镁合金微弧氧化膜的后处理及性能 | 第57-69页 |
6.1 溶胶—凝胶膜层的制备 | 第57-58页 |
6.2 溶胶—凝胶处理前后的表面形貌 | 第58-59页 |
6.3 溶胶—凝胶处理前后的陶瓷相及成分分析 | 第59页 |
6.4 溶胶—凝胶处理前后的EDS分析 | 第59-60页 |
6.5 溶胶—凝胶处理对耐蚀性能的影响 | 第60-61页 |
6.6 溶胶—凝胶处理前后的交流阻抗分析 | 第61-63页 |
6.7 溶胶—凝胶处理对耐磨性能的影响 | 第63-66页 |
6.7.1 摩擦系数 | 第63-64页 |
6.7.2 磨痕形貌 | 第64页 |
6.7.3 磨损率 | 第64-66页 |
6.8 光催化性能 | 第66-67页 |
6.9 小结 | 第67-69页 |
第七章 结论 | 第69-71页 |
参考文献 | 第71-77页 |
致谢 | 第77-79页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第79页 |