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含硅表面活性剂复配体系聚集结构及流变性质研究

目录第4-6页
中文摘要第6-8页
ABSTRACT第8-9页
第一章 绪论第10-27页
    1.1 引言第10页
    1.2 表面活性剂聚集体的形成第10-11页
    1.3 硅表面活性剂简介第11-13页
    1.4 非离子表面活性剂复配体系第13-17页
        1.4.1 碳氢非离子表面活性剂(C_nEO_m)复配体系第13-14页
        1.4.2 非离子型硅表面活性剂复配体系第14-17页
    1.5 表面活性剂聚集体研究技术第17-23页
        1.5.1 低温透射电子显微镜(cryo-TEM)第17-18页
        1.5.2 冷冻刻蚀透射电子显微镜(FF-TEM)第18页
        1.5.3 核磁共振氘谱(~2H NMR)第18-19页
        1.5.4 小角X射线散射(SAXS)第19-20页
        1.5.5 表面张力第20-21页
        1.5.6 流变学研究第21-23页
    1.6 选题依据与研究内容第23页
    参考文献第23-27页
第二章 非离子表面活性剂/氨基硅氧烷混合体系的自聚集与流变学性质第27-41页
    2.1 引言第27-28页
    2.2 实验部分第28-29页
        2.2.1 化学药品第28页
        2.2.2 相行为研究第28页
        2.2.3 流变学测定第28页
        2.2.4 核磁共振氘谱(~2H NMR)第28页
        2.2.5 小角X射线散射(SAXS)第28-29页
        2.2.6 低温透射电子显微镜观察(cryo-TEM)第29页
        2.2.7 冷冻刻蚀透射电子显微镜观察(FF-TEM)第29页
    2.3 结果和讨论第29-37页
        2.3.1 相行为第29-31页
        2.3.2 ~2H NMR和微观结构观察第31-33页
        2.3.3 SAXS表征第33-34页
        2.3.4 流变学性质第34-37页
    2.4 结论第37页
    参考文献第37-41页
第三章 M(D'EO_(5.5))M/AOT/H_2O混合体系聚集体结构及性质研究第41-57页
    3.1 引言第41页
    3.2 实验部分第41-43页
        3.2.1 化学药品第41-42页
        3.2.2 相行为研究第42页
        3.2.3 表面张力测定第42页
        3.2.4 流变学测定第42页
        3.2.5 核磁共振氘谱(~2H NMR)第42-43页
        3.2.6 小角X射线散射(SAXS)第43页
        3.2.7 低温透射电子显微镜观察(cryo-TEM)第43页
        3.2.8 冷冻刻蚀透射电子显微镜观察(FF-TEM)第43页
    3.3 结果和讨论第43-54页
        3.3.1 M(D'EO_(5.5))M的水解稳定性和表面性质第43-45页
        3.3.2 相行为第45-48页
        3.3.3 ~2H NMR表征第48-50页
        3.3.4 SAXS表征第50-52页
        3.3.5 Cryo-TEM及FF-TEM观察第52页
        3.3.6 流变性质研究第52-54页
    3.4 总结第54页
    参考文献第54-57页
致谢第57-58页
攻读硕士学位期间发表的论文目录第58-59页
学位论文评阅及答辩情况表第59页

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