| 内容摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第16-41页 |
| 1.1 研究背景与意义 | 第16-18页 |
| 1.2 光子微结构制备技术的研究现状 | 第18-26页 |
| 1.2.1 传统的光子微结构制备技术 | 第18-24页 |
| 1.2.2 光感应技术制备光折变光子微结构 | 第24-26页 |
| 1.3 论文的主要研究内容和创新点 | 第26-29页 |
| 1.3.1 论文的主要研究内容 | 第26-29页 |
| 1.3.2 论文的创新点 | 第29页 |
| 1.4 论文的结构安排 | 第29-31页 |
| 参考文献 | 第31-41页 |
| 第二章 光感应技术的理论基础 | 第41-52页 |
| 2.1 电光效应 | 第41-42页 |
| 2.2 光折变效应 | 第42-43页 |
| 2.3 光折变过程的带输运模型 | 第43-45页 |
| 2.4 光折变材料--铌酸锂晶体 | 第45-48页 |
| 参考文献 | 第48-52页 |
| 第三章 光折变准晶光子微结构的制备与表征 | 第52-81页 |
| 3.1 准晶光子微结构的研究背景 | 第52-55页 |
| 3.2 多针孔板方案的理论基础 | 第55-60页 |
| 3.3 二维光折变准晶光子微结构的制备与表征 | 第60-66页 |
| 3.4 三维光折变准晶光子微结构的制备与表征 | 第66-72页 |
| 3.5 本章小结 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-81页 |
| 第四章 大面积二维光折变光子微结构的制备与表征 | 第81-103页 |
| 4.1 多透镜板法制备大面积二维光折变光子微结构 | 第82-90页 |
| 4.1.1 多透镜板法的基本原理 | 第82-85页 |
| 4.1.2 大面积二维三角晶格光子微结构的制备与表征 | 第85-90页 |
| 4.2 多楔面棱镜法制备大面积二维光折变光子微结构 | 第90-97页 |
| 4.2.1 多楔面棱镜的基本原理 | 第90-93页 |
| 4.2.2 大面积二维四方晶格与准晶光子微结构的制备与表征 | 第93-97页 |
| 4.3 本章小结 | 第97-99页 |
| 参考文献 | 第99-103页 |
| 第五章 二维复杂光折变光子微结构的制备与表征 | 第103-126页 |
| 5.1 基于多光束干涉原理的复合周期光子微结构制备 | 第103-110页 |
| 5.1.1 多光束干涉产生复合周期光强图案的原理 | 第103-105页 |
| 5.1.2 多光束干涉制备复合周期光子微结构 | 第105-110页 |
| 5.2 基于投影成像方法的复杂光子微结构制备 | 第110-120页 |
| 5.2.1 投影成像法的原理与基础 | 第111-115页 |
| 5.2.2 投影成像法中光源的选取 | 第115页 |
| 5.2.3 投影成像法制备复杂类型光子微结构 | 第115-120页 |
| 5.3 本章小结 | 第120-122页 |
| 参考文献 | 第122-126页 |
| 第六章 光折变光子微结构的布拉格光学特性研究 | 第126-142页 |
| 6.1 布拉格衍射与布拉格条件 | 第126-128页 |
| 6.2 正向入射的布拉格衍射分析 | 第128-135页 |
| 6.2.1 晶体正着放置 | 第129-132页 |
| 6.2.2 晶体斜45°放置 | 第132-135页 |
| 6.3 侧向入射的布拉格衍射分析 | 第135-137页 |
| 6.4 本章小结 | 第137-139页 |
| 参考文献 | 第139-142页 |
| 第七章 总结 | 第142-145页 |
| 7.1 论文工作总结 | 第142-144页 |
| 7.2 研究展望 | 第144-145页 |
| 作者简历及攻读博士学位期间取得的科研成果与奖励 | 第145-147页 |
| 致谢 | 第147页 |
