| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第14-22页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第14-15页 |
| 1.2 半导体光电催化氧化原理 | 第15-16页 |
| 1.3 提高半导体光催化剂性能途径 | 第16-19页 |
| 1.3.1 掺杂金属离子 | 第16-17页 |
| 1.3.2 掺杂非金属离子 | 第17页 |
| 1.3.3 贵金属沉积 | 第17页 |
| 1.3.4 复合半导体 | 第17-18页 |
| 1.3.5 半导体光敏化 | 第18-19页 |
| 1.4 主要的光催化剂简介 | 第19-20页 |
| 1.4.1 二氧化钛光催化剂简介 | 第19页 |
| 1.4.2 钼酸铋光催化剂简介 | 第19-20页 |
| 1.4.3 g-C_3N_4光催化剂简介 | 第20页 |
| 1.5 研究内容和技术路线 | 第20-22页 |
| 1.5.1 研究内容 | 第20-21页 |
| 1.5.2 技术路线 | 第21-22页 |
| 第二章 文献综述 | 第22-34页 |
| 2.1 重金属络合物废水概述 | 第22-28页 |
| 2.1.1 重金属络合物废水的来源 | 第22页 |
| 2.1.2 重金属络合物废水的危害 | 第22-23页 |
| 2.1.3 传统重金属络合物废水的处理方法 | 第23-28页 |
| 2.1.3.1 物化沉淀法 | 第23-24页 |
| 2.1.3.2 吸附法 | 第24页 |
| 2.1.3.3 离子交换法 | 第24页 |
| 2.1.3.4 铁屑还原法 | 第24-25页 |
| 2.1.3.5 Fenton试剂氧化-沉淀法 | 第25页 |
| 2.1.3.6 电化学氧化法 | 第25-27页 |
| 2.1.3.7 其它方法 | 第27-28页 |
| 2.2 光电催化氧化技术发展状况 | 第28-32页 |
| 2.2.1 光催化氧化法的研究现状 | 第28-29页 |
| 2.2.2 光电催化氧化法的研究现状 | 第29页 |
| 2.2.3 光电催化氧化法的影响因素 | 第29-31页 |
| 2.2.4 光电催化氧化法的发展前景 | 第31-32页 |
| 2.3 本章小结 | 第32-34页 |
| 第三章 Bi_2MoO_6/g-C_3N_4复合薄膜电极制备及光电催化氧化Cu-EDTA研究 | 第34-46页 |
| 3.1 引言 | 第34页 |
| 3.2 实验材料与方法 | 第34-37页 |
| 3.2.1 实验材料及主要试剂 | 第34-35页 |
| 3.2.2 实验装置及主要仪器 | 第35-36页 |
| 3.2.3 实验步骤 | 第36-37页 |
| 3.2.3.1 Bi_2MoO_6/g-C_3N_4复合薄膜电极的制备 | 第36页 |
| 3.2.3.2 实验反应 | 第36页 |
| 3.2.3.3 表征及分析方法 | 第36-37页 |
| 3.3 实验结果分析 | 第37-42页 |
| 3.3.1 Bi_2MoO_6/g-C_3N_4复合薄膜电极光电流和交流阻抗谱图分析 | 第37-38页 |
| 3.3.2 Bi_2MoO_6/g-C_3N_4复合薄膜电极扫描电镜(SEM)结果分析 | 第38-39页 |
| 3.3.3 Bi_2MoO_6/g-C_3N_4复合薄膜电极能谱(EDX)结果分析 | 第39-40页 |
| 3.3.4 Bi_2MoO_6/g-C_3N_4复合薄膜电极透射电镜(TEM)结果分析 | 第40页 |
| 3.3.5 Bi_2MoO_6/g-C_3N_4复合薄膜电极XPS结果分析 | 第40-42页 |
| 3.4 Bi_2MoO_6/g-C_3N_4复合薄膜电极光电催化氧化能力验证 | 第42-43页 |
| 3.5 Bi_2MoO_6/g-C_3N_4复合薄膜电极光电催化氧化Cu-EDTA研究 | 第43-44页 |
| 3.6 本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 氧化石墨烯修饰的二氧化钛纳米管电极制备及光电催化氧化Cu-EDTA研究 | 第46-58页 |
| 4.1 引言 | 第46页 |
| 4.2 实验材料与方法 | 第46-48页 |
| 4.2.1 实验材料及主要试剂 | 第46-47页 |
| 4.2.2 实验装置及主要仪器 | 第47页 |
| 4.2.3 实验步骤 | 第47-48页 |
| 4.2.3.1 GO修饰的二氧化钛纳米管电极的制备 | 第47页 |
| 4.2.3.2 实验反应 | 第47页 |
| 4.2.3.3 表征及分析方法 | 第47-48页 |
| 4.3 实验结果分析 | 第48-49页 |
| 4.3.1 GO修饰的二氧化钛纳米管电极线性扫描图分析 | 第48页 |
| 4.3.2 GO修饰的二氧化钛纳米管电极扫描电镜(SEM)结果分析 | 第48-49页 |
| 4.4 GO修饰的二氧化钛纳米管电极光电催化氧化能力验证 | 第49-50页 |
| 4.5 GO修饰的二氧化钛纳米管光电催化氧化Cu-EDTA研究 | 第50-56页 |
| 4.5.1 电压对光电催化氧化Cu-EDTA效果的影响 | 第50-52页 |
| 4.5.2 pH对光电催化氧化Cu-EDTA效果的影响 | 第52-53页 |
| 4.5.3 电解质浓度对光电催化氧化Cu-EDTA效果的影响 | 第53-54页 |
| 4.5.4 EDTA与Cu不同比例对光电催化氧化Cu-EDTA效果的影响 | 第54-55页 |
| 4.5.5 Ca~(2+)对光电催化氧化Cu-EDTA效果的影响 | 第55-56页 |
| 4.5.6 光电催化氧化作用的实际应用前景分析 | 第56页 |
| 4.6 本章小结 | 第56-58页 |
| 第五章 二氧化钛薄膜电极制备及光电催化氧化Cu-EDTA研究 | 第58-72页 |
| 5.1 引言 | 第58页 |
| 5.2 实验材料与方法 | 第58-59页 |
| 5.2.1 实验材料及主要试剂 | 第58-59页 |
| 5.2.2 实验装置及主要仪器 | 第59页 |
| 5.2.3 实验步骤 | 第59页 |
| 5.2.3.1 二氧化钛薄膜电极的制备 | 第59页 |
| 5.2.3.2 实验反应 | 第59页 |
| 5.2.3.3 表征及分析方法 | 第59页 |
| 5.3 实验结果分析 | 第59-63页 |
| 5.3.1 二氧化钛薄膜电极线性扫描图分析 | 第59-60页 |
| 5.3.2 二氧化钛薄膜电极扫描电镜结果分析 | 第60-62页 |
| 5.3.3 二氧化钛薄膜电极XRD结果分析 | 第62-63页 |
| 5.4 二氧化钛薄膜电极光电催化氧化能力验证 | 第63-64页 |
| 5.4.1 无光条件下光电催化氧化亚甲基蓝 | 第63页 |
| 5.4.2 光照条件下光电催化氧化亚甲基蓝 | 第63-64页 |
| 5.5 二氧化钛薄膜电极光电催化氧化Cu-EDTA研究 | 第64-70页 |
| 5.5.1 电压对光电催化氧化Cu-EDTA效果的影响 | 第64-65页 |
| 5.5.2 pH对光电催化氧化Cu-EDTA效果的影响 | 第65-67页 |
| 5.5.3 初始浓度对光电催化氧化Cu-EDTA效果的影响 | 第67-68页 |
| 5.5.4 CO_3~(2-)对光电催化氧化Cu-EDTA效果的影响 | 第68页 |
| 5.5.5 Ca~(2+)对光电催化氧化Cu-EDTA效果的影响 | 第68-69页 |
| 5.5.6 K_4P_2O_7(焦磷酸盐)对光电催化氧化Cu-EDTA效果的影响 | 第69-70页 |
| 5.6 本章小结 | 第70-72页 |
| 第六章 结论与展望 | 第72-74页 |
| 6.1 结论 | 第72-73页 |
| 6.2 创新点 | 第73页 |
| 6.3 展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-80页 |
| 攻读硕士学位期间所得的相关科研成果 | 第80-82页 |
| 致谢 | 第82页 |
