| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-17页 |
| 第二章 文献综述 | 第17-32页 |
| ·超细SiO_2粉体简介 | 第17-20页 |
| ·超细SiO_2粉体性质 | 第17页 |
| ·超细SiO_2表面硅羟基结构 | 第17-18页 |
| ·超细SiO_2粉体的生产方法 | 第18-19页 |
| ·国内外超细SiO2粉体的生产现状 | 第19-20页 |
| ·超细SiO_2表面改性 | 第20-28页 |
| ·改性剂 | 第21页 |
| ·二氧化硅表面改性方法及机理 | 第21-23页 |
| ·超细SiO_2的表面改性工艺 | 第23-24页 |
| ·表面改性超细SiO_2的表征 | 第24-26页 |
| ·国内外超细SiO_2粉体表面改性生产及研究现状 | 第26-28页 |
| ·超细SiO_2粉体的干燥方式 | 第28-29页 |
| ·超细SiO_2粉体的应用研究进展 | 第29-30页 |
| ·本课题研究的目的和意义 | 第30-32页 |
| 第三章 恒沸蒸馏干燥超细SiO_2粉体的研究 | 第32-42页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·实验部分 | 第32-34页 |
| ·超细SiO_2凝胶的制备 | 第32-33页 |
| ·实验原料及药品 | 第33页 |
| ·实验方法 | 第33-34页 |
| ·样品的表征 | 第34页 |
| ·实验结果与讨论 | 第34-39页 |
| ·TEM透射电镜分析 | 第34-35页 |
| ·红外分析 | 第35-36页 |
| ·BJH孔结构分析 | 第36-37页 |
| ·热重-差热分析 | 第37-38页 |
| ·粒径分布分析 | 第38-39页 |
| ·不同干燥方式产品性能比较 | 第39页 |
| ·共沸干燥机理分析 | 第39-41页 |
| ·小结 | 第41-42页 |
| 第四章 恒沸蒸馏用于超细SiO_2湿滤饼的改性 | 第42-55页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·实验部分 | 第42-44页 |
| ·实验原料及药品 | 第42页 |
| ·实验装置和仪器 | 第42-43页 |
| ·实验方案 | 第43-44页 |
| ·样品表征方法 | 第44页 |
| ·实验结果与讨论 | 第44-54页 |
| ·接触角和表面羟基数分析 | 第44-45页 |
| ·透射电镜照片分析 | 第45-46页 |
| ·粒径分布分析 | 第46-47页 |
| ·红外光谱分析 | 第47-49页 |
| ·BET比表面积及BJH孔结构分析 | 第49-50页 |
| ·热重-差热分析 | 第50-51页 |
| ·DMDCS改性溶剂、改性时间和改性剂用量对改性效果影响 | 第51-52页 |
| ·HMDS改性溶剂、改性时间和改性剂用量对改性效果影响 | 第52-54页 |
| ·实验结论 | 第54-55页 |
| 第五章 溶剂置换用于超细SiO_2的改性 | 第55-63页 |
| ·引言 | 第55页 |
| ·实验部分 | 第55-58页 |
| ·实验原料及药品 | 第55页 |
| ·改性方法 | 第55-56页 |
| ·偶联剂的水解方案 | 第56-57页 |
| ·改性工艺流程 | 第57-58页 |
| ·样品表征方法 | 第58页 |
| ·实验结果与讨论 | 第58-62页 |
| ·透射电镜分析 | 第58-59页 |
| ·粒径分布分析 | 第59-60页 |
| ·红外光谱分析 | 第60-61页 |
| ·改性溶剂对改性效果影响 | 第61页 |
| ·改性时间和改性剂用量对改性效果影响 | 第61-62页 |
| ·实验结论 | 第62-63页 |
| 第六章 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第68-69页 |
| 作者和导师简介 | 第69页 |