| 致谢 | 第6-7页 |
| 摘要 | 第7-9页 |
| Abstract | 第9-10页 |
| 1. 绪论 | 第16-35页 |
| 1.1 研究背景 | 第16-18页 |
| 1.2 半导体光催化产氢原理及现状 | 第18-23页 |
| 1.2.1 光催化产氢原理 | 第18-19页 |
| 1.2.2 光催化产氢研究现状 | 第19-23页 |
| 1.3 TiO_2催化剂表面修饰 | 第23-32页 |
| 1.3.1 形貌调控 | 第23-24页 |
| 1.3.2 金属/金属氧化物负载 | 第24-26页 |
| 1.3.3 碳材料表面修饰 | 第26-28页 |
| 1.3.4 金属硫化物表面修饰 | 第28-29页 |
| 1.3.5 异质结构建 | 第29-32页 |
| 1.4 选题背景、研究目的及内容 | 第32-35页 |
| 1.4.1 选题背景 | 第32-33页 |
| 1.4.2 研究目的 | 第33页 |
| 1.4.3 研究内容 | 第33-35页 |
| 2. 实验材料与方法 | 第35-41页 |
| 2.1 实验材料和仪器 | 第35-36页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第35-36页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第36页 |
| 2.2 催化剂制备 | 第36-38页 |
| 2.2.1 RGO、MoS_2/TiO_2催化剂制备 | 第36-37页 |
| 2.2.2 Cu、Fe、Ni/TiO_2催化剂制备 | 第37-38页 |
| 2.3 实验分析方法 | 第38页 |
| 2.4 催化剂活性评价 | 第38页 |
| 2.5 催化剂表征分析 | 第38-41页 |
| 2.5.1 结构性质表征 | 第38-39页 |
| 2.5.2 光学性能表征 | 第39-40页 |
| 2.5.3 电化学表征 | 第40-41页 |
| 3. RGO、MoS_2二维材料表面修饰片状TiO_2光催化产氢研究 | 第41-58页 |
| 3.1 引言 | 第41页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第41-56页 |
| 3.2.1 晶相与形貌结构 | 第41-48页 |
| 3.2.2 光学性能 | 第48-50页 |
| 3.2.3 电化学性能 | 第50-52页 |
| 3.2.4 催化产氢效果实验 | 第52-54页 |
| 3.2.5 RGO、MoS_2/TiO_2产氢界面电子转移机制 | 第54-56页 |
| 3.3 本章小结 | 第56-58页 |
| 4. Cu、Fe、Ni金属表面修饰片状TiO_2光催化产氢研究 | 第58-73页 |
| 4.1 引言 | 第58页 |
| 4.2 结果与分析 | 第58-71页 |
| 4.2.1 晶相与形貌结构 | 第58-63页 |
| 4.2.2 光学性能 | 第63-65页 |
| 4.2.3 电化学性能 | 第65-67页 |
| 4.2.4 光催化产氢效果实验 | 第67-68页 |
| 4.2.5 Cu、Fe、Ni/TiO_2光催化产氢界面电子转移机制 | 第68-71页 |
| 4.3 本章小结 | 第71-73页 |
| 5. 结论、创新点及展望 | 第73-75页 |
| 5.1 结论 | 第73-74页 |
| 5.2 创新点 | 第74页 |
| 5.3 展望 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-83页 |
| 个人简历 | 第83页 |
