摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
1 绪论 | 第9-16页 |
1.1 研究背景 | 第9页 |
1.2 课题研究的目的和意义 | 第9-10页 |
1.3 磁场辅助电解加工的研究现状 | 第10-12页 |
1.4 电解加工仿真的研究现状 | 第12-14页 |
1.5 课题的研究内容和方法 | 第14-15页 |
1.5.1 研究内容 | 第14页 |
1.5.2 研究方法 | 第14-15页 |
1.6 技术路线 | 第15-16页 |
2 磁场的设计方案 | 第16-20页 |
2.1 磁源的选择 | 第16页 |
2.2 磁场问题的数学描述 | 第16-17页 |
2.3 磁路的设计 | 第17-18页 |
2.4 模型中的电磁场 | 第18-19页 |
2.5 本章小结 | 第19-20页 |
3 磁场复合电解加工中气、液两相流场的仿真分析 | 第20-45页 |
3.1 分析软件的选择 | 第20页 |
3.2 电解液的流动方式的选择 | 第20-21页 |
3.3 气液两相流动模型的选择 | 第21-24页 |
3.4 磁场作用下流体的驱动机理 | 第24页 |
3.5 仿真加工间隙中气液两相流场的理论模型 | 第24-28页 |
3.5.1 物理模型 | 第24-25页 |
3.5.2 数学模型 | 第25-26页 |
3.5.3 有限元模型 | 第26-28页 |
3.6 仿真结果及分析 | 第28-44页 |
3.6.1 方式一的仿真结果及分析 | 第28-34页 |
3.6.2 方式二的仿真结果及分析 | 第34-38页 |
3.6.3 方式三的仿真结果及分析 | 第38-44页 |
3.7 本章小结 | 第44-45页 |
4 磁场对电解加工中材料去除率影响的仿真分析 | 第45-55页 |
4.1 仿真材料去除率的理论模型 | 第45-48页 |
4.1.1 物理模型 | 第45页 |
4.1.2 数学模型 | 第45-47页 |
4.1.3 有限元模型 | 第47-48页 |
4.2 仿真结果及分析 | 第48-54页 |
4.2.1 未加磁场及添加不同磁场方式时材料去除量的仿真结果及分析 | 第48-49页 |
4.2.2 添加不同强度的垂直磁场时材料去除量的仿真结果及分析 | 第49-54页 |
4.3 本章小结 | 第54-55页 |
5 磁场对电解加工影响的微观分析 | 第55-60页 |
5.1 垂直磁场下单个带电粒子的运动 | 第55-57页 |
5.2 磁场作用下气泡的运动 | 第57-59页 |
5.3 本章小结 | 第59-60页 |
6 结论 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-64页 |
致谢 | 第64-66页 |