摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第12-35页 |
1.1 半导体光催化简介 | 第12-15页 |
1.1.1 研究背景 | 第12页 |
1.1.2 半导体光催化的机理 | 第12-13页 |
1.1.3 半导体光催化的应用 | 第13-15页 |
1.2 g-C_3N_4光催化剂的概述 | 第15-21页 |
1.2.1 g-C_3N_4光催化剂的结构 | 第16-17页 |
1.2.2 g-C_3N_4光催化剂的制备 | 第17-20页 |
1.2.3 g-C_3N_4光催化剂的性能研究 | 第20-21页 |
1.3 g-C_3N_4的改性 | 第21-25页 |
1.3.1 g-C_3N_4的形貌调控 | 第21-23页 |
1.3.2 元素掺杂 | 第23-24页 |
1.3.3 g-C_3N_4的共聚合 | 第24-25页 |
1.3.4 构建异质结构 | 第25页 |
1.4 g-C_3N_4光催化剂的应用 | 第25-34页 |
1.4.1 光催化分解水产氧、产氢 | 第26-28页 |
1.4.2 光催化CO_2还原 | 第28-29页 |
1.4.3 光催化降解污染物 | 第29-32页 |
1.4.4 光催化有机合成 | 第32-33页 |
1.4.5 光催化杀菌消毒 | 第33-34页 |
1.5 本文研究意义及内容 | 第34-35页 |
第二章 Fe/g-C_3N_4材料光催化降解RhB的性能研究 | 第35-49页 |
2.1 前言 | 第35-36页 |
2.2 实验部分 | 第36-38页 |
2.2.1 实验试剂 | 第36页 |
2.2.2 实验仪器 | 第36页 |
2.2.3 光催化材料的制备 | 第36-37页 |
2.2.4 光催化活性研究 | 第37页 |
2.2.5 光电流测试 | 第37-38页 |
2.3 结果与讨论 | 第38-48页 |
2.3.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第38页 |
2.3.2 傅立叶红外(FT-IR)分析 | 第38-39页 |
2.3.3 扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)分析 | 第39-40页 |
2.3.4 紫外-可见漫反射光谱(DRS)分析 | 第40-41页 |
2.3.5 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第41-42页 |
2.3.6 光致发光光谱(PL)分析 | 第42-43页 |
2.3.7 瞬态光电流响应分析 | 第43-44页 |
2.3.8 光催化活性分析 | 第44-45页 |
2.3.9 自由基捕获实验 | 第45-47页 |
2.3.10 Fe/g-C_3N_4降解RhB机理分析 | 第47-48页 |
2.4 本章小结 | 第48-49页 |
第三章 Co/g-C_3N_4材料光催化降解RhB的性能研究 | 第49-63页 |
3.1 前言 | 第49-50页 |
3.2 实验部分 | 第50-52页 |
3.2.1 实验试剂 | 第50页 |
3.2.2 实验仪器 | 第50页 |
3.2.3 光催化材料的制备 | 第50-51页 |
3.2.4 光催化活性研究 | 第51页 |
3.2.5 光电流测试 | 第51-52页 |
3.3 结果与讨论 | 第52-62页 |
3.3.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第52页 |
3.3.2 傅立叶红外(FT-IR)分析 | 第52-53页 |
3.3.3 形貌分析 | 第53-55页 |
3.3.4 紫外-可见漫反射光谱(DRS)分析 | 第55-56页 |
3.3.5 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第56-57页 |
3.3.6 光致发光光谱(PL)分析 | 第57-58页 |
3.3.7 瞬态光电流响应分析 | 第58-59页 |
3.3.8 光催化活性分析 | 第59-60页 |
3.3.9 自由基捕获实验 | 第60-61页 |
3.3.10 Co/g-C_3N_4降解RhB机理分析 | 第61-62页 |
3.4 本章小结 | 第62-63页 |
第四章 Cu/g-C_3N_4材料光催化降解RhB的性能研究 | 第63-78页 |
4.1 前言 | 第63-64页 |
4.2 实验部分 | 第64-66页 |
4.2.1 实验试剂 | 第64页 |
4.2.2 实验仪器 | 第64页 |
4.2.3 光催化材料的制备 | 第64-65页 |
4.2.4 光催化活性研究 | 第65页 |
4.2.5 光电测试 | 第65-66页 |
4.3 结果与讨论 | 第66-76页 |
4.3.1 X射线衍射(XRD)和能量色散X射线谱(EDS)分析 | 第66-67页 |
4.3.2 傅立叶红外(FT-IR)分析 | 第67页 |
4.3.3 形貌分析 | 第67-69页 |
4.3.4 紫外-可见漫反射光谱(DRS)分析 | 第69-70页 |
4.3.5 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第70-71页 |
4.3.6 光催化活性分析 | 第71-72页 |
4.3.7 光电性能分析 | 第72-74页 |
4.3.8 自由基捕获实验分析 | 第74-75页 |
4.3.9 光催化机理研究 | 第75-76页 |
4.4 本章小结 | 第76-78页 |
第五章 结论与展望 | 第78-80页 |
5.1 结论 | 第78-79页 |
5.2 展望 | 第79-80页 |
参考文献 | 第80-95页 |
致谢 | 第95-96页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第96页 |