| 中文摘要 | 第4-5页 |
| 英文摘要 | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-19页 |
| 1．1 引言 | 第8页 |
| 1．2 铝合金微等离子体氧化研究现状 | 第8-17页 |
| 1．2．1 微等离子体氧化技术的发展 | 第8-9页 |
| 1．2．2 微等离子体氧化技术原理 | 第9-11页 |
| 1．2．3 常用微等离子体氧化处理液 | 第11-12页 |
| 1．2．4 影响陶瓷层制备的工艺因素 | 第12-15页 |
| 1．2．5 陶瓷层的结构与性能 | 第15-16页 |
| 1．2．6 微等离子体氧化陶瓷层的尺寸变化规律 | 第16-17页 |
| 1．2．7 微等离子体氧化技术的应用 | 第17页 |
| 1．3 本课题研究的目的、意义及内容 | 第17-19页 |
| 2 试验研究及结果分析 | 第19-34页 |
| 2．1 试验条件 | 第19-21页 |
| 2．1．1 试验材料 | 第19-20页 |
| 2．1．2 试验用试剂及电解质成分 | 第20页 |
| 2．1．3 试验设备与系统 | 第20-21页 |
| 2．2 试验方法 | 第21-25页 |
| 2．2．1 微等离子体氧化工艺 | 第21-22页 |
| 2．2．2 微等离子体氧化液组分浓度的确定 | 第22-25页 |
| 2．3 微等离子体氧化膜性能影响因素研究 | 第25-30页 |
| 2．3．1 电流密度对氧化膜性能影响的试验及结果分析 | 第25-27页 |
| 2．3．2 电解液温度对氧化膜性能影响的试验及结果分析 | 第27-30页 |
| 2．4 陶瓷氧化膜形成条件的探讨 | 第30-32页 |
| 2．4．1 氧化膜陶瓷层形成的电化学条件 | 第30-31页 |
| 2．4．2 氧化膜陶瓷层形成的热力学条件 | 第31-32页 |
| 2．5 陶瓷氧化膜生长的理论探讨 | 第32-34页 |
| 2．5．1 氧化膜层陶瓷颗粒的形成 | 第32-33页 |
| 2．5．2 氧化膜陶瓷层的增厚 | 第33-34页 |
| 3 自适应神经模糊推理建模方法 | 第34-44页 |
| 3．1 模糊逻辑与模糊逻辑系统 | 第34-38页 |
| 3．1．1 模糊逻辑 | 第34-35页 |
| 3．1．2 模糊系统的组成与分类 | 第35-36页 |
| 3．1．3 纯模糊系统 | 第36-37页 |
| 3．1．4 高木-关野系统 | 第37-38页 |
| 3．2 自适应神经模糊推理建模 | 第38-44页 |
| 3．2．1 神经网络和模糊系统的结合 | 第38-39页 |
| 3．2．2 如何从数据中获得规则 | 第39-40页 |
| 3．2．3 模糊系统的人工神经网络等价 | 第40页 |
| 3．2．4 系统参数确定的BP算法 | 第40-42页 |
| 3．2．5 基于数据的自适应神经模糊推理建模流程图 | 第42-44页 |
| 4 微等离子体氧化工艺自适应神经模糊推理模型 | 第44-51页 |
| 4．1 数据 | 第44-45页 |
| 4．2 模型的建立和检验 | 第45-47页 |
| 4．3 模型的中试验证 | 第47-51页 |
| 5 结论及展望 | 第51-53页 |
| 5．1 结论 | 第51-52页 |
| 5．2 展望 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 附录：作者在攻读硕士学位期间发表的论文目录 | 第58页 |
