| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-29页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·纳米材料概述 | 第11-14页 |
| ·纳米材料分类 | 第12页 |
| ·纳米材料的应用 | 第12-14页 |
| ·纳米薄膜材料制备技术 | 第14-20页 |
| ·化学气相沉积法 | 第14-16页 |
| ·电化学沉积法 | 第16页 |
| ·化学镀法 | 第16-17页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第17-18页 |
| ·射频磁控溅射法 | 第18-20页 |
| ·本课题的研究内容 | 第20-21页 |
| 参考文献 | 第21-29页 |
| 第二章 实验部分 | 第29-39页 |
| ·CuO 薄膜样品的制备 | 第29-31页 |
| ·实验试剂、仪器及装置 | 第29-30页 |
| ·实验流程 | 第30页 |
| ·溶胶的制备 | 第30-31页 |
| ·CuO 薄膜的制备 | 第31页 |
| ·Cu/TiO_x 复合薄膜样品的制备 | 第31-32页 |
| ·靶材 | 第31-32页 |
| ·射频磁控溅射制备 Cu/TiO_x 复合薄膜薄膜 | 第32页 |
| ·样品的表征 | 第32-38页 |
| ·X-射线衍射仪(XRD) | 第32-33页 |
| ·X-射线光电子能谱(XPS) | 第33-34页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第34-35页 |
| ·扫描电镜(SEM) 和能谱仪(EDS) | 第35-36页 |
| ·光学性能 | 第36页 |
| ·亲水性能 | 第36-38页 |
| 参考文献 | 第38-39页 |
| 第三章 溶胶凝胶法制备氧化铜纳米薄膜的结构与性能研究 | 第39-50页 |
| ·溶胶-凝胶法制备CuO 薄膜 | 第39-40页 |
| ·溶胶-凝胶的制备 | 第40-41页 |
| ·pH值对溶胶液的影响 | 第40-41页 |
| ·聚乙烯醇的量对于溶胶液的影响 | 第41页 |
| ·CuO 薄膜的表征与结果分析 | 第41-47页 |
| ·不同涂覆次数对薄膜的影响 | 第41-43页 |
| ·不同热处理温度对薄膜的影响 | 第43-45页 |
| ·不同衬底对薄膜的影响 | 第45-47页 |
| ·CuO 薄膜的光学性质 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |
| 第四章 射频溅射制备 Cu/TiO_x 复合薄膜的性能研究 | 第50-74页 |
| ·Cu/TiO_x 复合薄膜的制备 | 第50页 |
| ·Cu/TiO_x 复合薄膜的晶体结构 | 第50-55页 |
| ·溅射气压对复合薄膜晶体结构的影响 | 第51-53页 |
| ·溅射时间对复合薄膜晶体结构的影响 | 第53-54页 |
| ·Cu 的溅射功率对复合薄膜晶体结构的影响 | 第54页 |
| ·溅射气氛对复合薄膜晶体结构的影响 | 第54-55页 |
| ·Cu/TiO_x 复合薄膜元素分析 | 第55-57页 |
| ·薄膜的 XPS 分析 | 第57-59页 |
| ·Cu/TiO_x 复合薄膜的表面形貌 | 第59-66页 |
| ·溅射气压对复合薄膜表面形貌的影响 | 第59-60页 |
| ·溅射时间对复合薄膜表面形貌的影响 | 第60-62页 |
| ·Cu 溅射功率对复合薄膜表面形貌的影响 | 第62-63页 |
| ·溅射气氛对复合薄膜表面形貌的影响 | 第63-65页 |
| ·热处理对复合薄膜表面形貌的影响 | 第65-66页 |
| ·Cu/TiO_x 复合薄膜的光学性质 | 第66-68页 |
| ·溅射时间对复合薄膜光学性质的影响 | 第66-67页 |
| ·Cu 溅射功率对复合薄膜光学性质的影响 | 第67-68页 |
| ·Cu/TiO_x 复合薄膜的亲水性能研究 | 第68-71页 |
| ·溅射时间对复合薄膜亲水性能的影响 | 第68-70页 |
| ·Cu 溅射功率对复合薄膜亲水性的影响 | 第70-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-74页 |
| 第五章 结论 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 硕士期间发表的学位论文 | 第76页 |
