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电子注激发表面等离子体激元产生电磁辐射的研究

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
第一章 绪论第11-33页
    1.1 太赫兹波的特性及其应用第11-13页
    1.2 太赫兹辐射源的发展现状第13-17页
    1.3 石墨烯在太赫兹波中的应用第17-21页
    1.4 表面等离子体激元第21-30页
        1.4.1 金属表面等离子体激元第22-26页
        1.4.2 石墨烯表面等离子体激元第26-30页
    1.5 本论文的选题依据与研究内容第30-33页
第二章 平板石墨烯表面等离子体激元太赫兹辐射第33-62页
    2.1 引言第33页
    2.2 石墨烯加载均匀介质结构第33-41页
    2.3 石墨烯加载介质周期结构第41-60页
        2.3.1 色散方程推导第42-46页
            2.3.1.1 等效介质理论第42-43页
            2.3.1.2 散射矩阵理论第43-46页
        2.3.2 辐射功率推导第46-49页
        2.3.3 数值计算第49-60页
            2.3.3.1 石墨烯加载矩形介质光栅第49-51页
            2.3.3.2 石墨烯加载任意形状介质光栅第51-58页
            2.3.3.3 介质光栅深度对辐射特性的影响第58-60页
    2.4 本章小结第60-62页
第三章 圆柱石墨烯表面等离子体激元太赫兹辐射第62-92页
    3.1 引言第62-63页
    3.2 螺旋运动电子产生的入射场第63-70页
    3.3 圆柱单层石墨烯加载介质结构第70-80页
        3.3.1 色散推导第71-72页
        3.3.2 螺旋运动电子注激励表面等离子激元及辐射推导第72-74页
        3.3.3 数值计算第74-80页
    3.4 圆柱双层石墨烯加载介质结构第80-90页
        3.4.1 色散推导第81-84页
        3.4.2 螺旋运动电子激励表面等离子激元及辐射推导第84-86页
        3.4.3 数值计算第86-90页
    3.5 本章小结第90-92页
第四章 金属表面等离子体激元衍射辐射第92-127页
    4.1 引言第92页
    4.2 金属薄膜加载完纯导体光栅第92-107页
        4.2.1 理论分析第92-101页
        4.2.2 辐射的干涉现象第101-107页
    4.3 金属薄膜加载介质光栅第107-120页
        4.3.1 理论分析第107-115页
        4.3.2 衍射辐射和切伦科夫辐射第115-120页
    4.4 金属薄膜加载二维金属光栅第120-125页
    4.5 本章小结第125-127页
第五章 金属表面等离子体激元切伦科夫辐射第127-142页
    5.1 引言第127-128页
    5.2 平板介质-金属多层结构第128-134页
    5.3 圆柱介质-金属多层结构第134-141页
    5.4 本章小结第141-142页
第六章 全文总结与展望第142-144页
致谢第144-145页
参考文献第145-152页
攻读博士学位期间取得的成果第152-154页

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