陶瓷和金属材料光学表面抛光特性的研究

摘要	第3-5页
ABSTRACT	第5-6页
第一章 绪论	第8-16页
1.1 课题的来源	第8页
1.2 研究目的及意义	第8-9页
1.3 国内外研究现状	第9-13页
1.4 论文拟定研究路线	第13-14页
1.5 主要研究内容	第14页
1.6 本章小结	第14-16页
第二章 超精密光学加工的基本理论和方法	第16-42页
2.1 超精密光学加工工艺的分析	第16-32页
2.2 实验设计及评价分析方法	第32-40页
2.3 本章小结	第40-42页
第三章 陶瓷类材料的表面属性及实验研究	第42-76页
3.1 碳化硅材料的性质和分类	第42-44页
3.2 多尺度抛光工艺影响因素的选择	第44-46页
3.3 计算机数控超精密柔性气囊抛光实验设计	第46-54页
3.4 MATLAB、ZEEKO建模比对预算结果	第54-55页
3.5 MPIF对于表面质量和去除特性的影响分析	第55-72页
3.6 实际反射率对表面质量的评价	第72-74页
3.7 本章小结	第74-76页
第四章 金属类材料表面抛光属性及实验研究	第76-98页
4.1 金属类材料的选取和表面属性	第76-77页
4.2 确定性精密低压抛光工艺实验设计	第77-80页
4.3 空间频谱分析表面质量	第80-92页
4.4 表面反射率与表面质量的变化关系	第92-95页
4.5 金属非球面空间频带误差分析	第95-97页
4.6 本章小结	第97-98页
第五章 总结与展望	第98-101页
5.1 全文总结	第98-99页
5.2 创新性工作	第99-100页
5.3 研究展望	第100-101页
致谢	第101-102页
参考文献	第102-106页
附录 攻读博士学位期间取得的学术研究成果	第106页