摘要 | 第11-12页 |
Abstract | 第12-13页 |
第一章 绪论 | 第14-36页 |
1.1 引言 | 第14-15页 |
1.2 透明导电薄膜的研究现状 | 第15-29页 |
1.2.1 单层透明导电薄膜 | 第17-27页 |
1.2.2 多层透明导电薄膜 | 第27-29页 |
1.3 透明导电薄膜的制备方法 | 第29-31页 |
1.3.1 物理沉积 | 第29-30页 |
1.3.2 化学沉积 | 第30-31页 |
1.4 透明导电薄膜的应用 | 第31-33页 |
1.4.1 太阳能电池 | 第31-32页 |
1.4.2 平面显示器 | 第32页 |
1.4.3 电磁屏蔽层 | 第32页 |
1.4.4 透明视窗 | 第32页 |
1.4.5 传感器 | 第32-33页 |
1.5 选题意义及研究内容 | 第33-36页 |
第二章 技术路线与实验方法 | 第36-44页 |
2.1 技术路线图 | 第36-37页 |
2.2 实验用原材料及设备 | 第37-39页 |
2.2.1 实验材料 | 第37-38页 |
2.2.2 主要仪器设备 | 第38-39页 |
2.3 ITO/石墨烯/ITO透明导电薄膜的制备 | 第39-41页 |
2.3.1 ITO/石墨烯/ITO透明导电薄膜的制备方法 | 第39-40页 |
2.3.2 制样的主要设备 | 第40-41页 |
2.4 ITO/石墨烯/ITO透明导电薄膜的的分析测试方法 | 第41-44页 |
2.4.1 四探针测试仪、霍尔测量仪 | 第41页 |
2.4.2 紫外可见分光光度计 | 第41-42页 |
2.4.3 场发射扫描电子显微镜(FESEM) | 第42页 |
2.4.4 原子力显微镜(AFM) | 第42页 |
2.4.5 拉曼光谱仪 | 第42-43页 |
2.4.6 光学显微镜 | 第43-44页 |
第三章 不同本底真空度下ITO薄膜的制备与表征 | 第44-62页 |
3.1 引言 | 第44页 |
3.2 样品的制备及其检测 | 第44-45页 |
3.3 低本底真空度下ITO薄膜光电性能分析 | 第45-50页 |
3.3.1 导电性能 | 第45-49页 |
3.3.2 光学性能 | 第49-50页 |
3.4 低本底真空度下ITO薄膜组织形貌表征 | 第50-53页 |
3.5 不同本底真空度下ITO薄膜光电性能分析 | 第53-57页 |
3.5.1 导电性能 | 第53-56页 |
3.5.2 光学性能 | 第56-57页 |
3.6 不同本底真空度下ITO薄膜组织形貌表征 | 第57-61页 |
3.7 本章小结 | 第61-62页 |
第四章 ITO/G(1-5)/ITO透明导电薄膜的制备及表征 | 第62-78页 |
4.1 引言 | 第62-63页 |
4.2 样品的制备及其检测 | 第63-64页 |
4.2.1 薄膜制备 | 第63-64页 |
4.2.2 薄膜表征 | 第64页 |
4.3 叠层石墨烯薄膜的制备与表征 | 第64-72页 |
4.4 ITO/G(1-5)/ITO薄膜光电性能分析 | 第72-74页 |
4.4.1 导电性能 | 第72-73页 |
4.4.2 光学性能 | 第73-74页 |
4.5 ITO/G(1-5)薄膜组织形貌表征 | 第74-77页 |
4.6 本章小结 | 第77-78页 |
第五章 结论 | 第78-80页 |
5.1 总结 | 第78-79页 |
5.2 主要创新点 | 第79-80页 |
参考文献 | 第80-88页 |
致谢 | 第88-90页 |
附录 | 第90-91页 |
学位论文评阅及答辩情况表 | 第91页 |