半导体材料微纳结构的构筑
摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-26页 |
1.1 微纳材料概述 | 第11-15页 |
1.1.1 微纳材料简介 | 第11-12页 |
1.1.2 微纳材料特性 | 第12-14页 |
1.1.3 硅微纳材料 | 第14-15页 |
1.1.4 氧化锌微纳材料 | 第15页 |
1.2 微纳结构的构筑方法 | 第15-22页 |
1.2.1 纳米压印技术 | 第16-19页 |
1.2.2 胶体刻蚀技术 | 第19页 |
1.2.3 单晶硅微纳材料的制备 | 第19-21页 |
1.2.4 氧化锌微纳材料制备 | 第21-22页 |
1.3 微纳米结构的应用 | 第22-24页 |
1.3.1 单晶硅微纳材料的应用 | 第22-23页 |
1.3.2 氧化锌微纳材料的应用 | 第23-24页 |
1.4 本文的选题目的与意义 | 第24-26页 |
第二章 单晶硅材料微纳结构的制备 | 第26-40页 |
2.1 引言 | 第26页 |
2.2 实验部分 | 第26-30页 |
2.2.1 材料与仪器 | 第26-27页 |
2.2.2 多种表面微纳结构的平行构筑 | 第27-28页 |
2.2.3 实验步骤 | 第28-30页 |
2.3 结果与讨论 | 第30-39页 |
2.3.1 纳米压印制备PMMA柱模板 | 第30-31页 |
2.3.2 不同模板的制备 | 第31-32页 |
2.3.3 多种结构的制备 | 第32-39页 |
2.4 本章小结 | 第39-40页 |
第三章 氧化锌纳米棒的制备及其在质谱检测中的应用 | 第40-60页 |
3.1 引言 | 第40-41页 |
3.2 实验步骤 | 第41-43页 |
3.2.1 实验材料与仪器 | 第41页 |
3.2.2 硅/氧化锌/银复合结构的构筑 | 第41-43页 |
3.2.3 质谱测试 | 第43页 |
3.3 结果与讨论 | 第43-59页 |
3.3.1 平面氧化锌的制备 | 第43-48页 |
3.3.2 硅锥/氧化锌复合结构的制备 | 第48-52页 |
3.3.3 硅锥/氧化锌/银复合结构的制备 | 第52-55页 |
3.3.4 两种复合结构的SALDI检测 | 第55-59页 |
3.4 本章小结 | 第59-60页 |
第四章 结论与展望 | 第60-62页 |
4.1 单晶硅微纳结构材料的制备 | 第60页 |
4.2 氧化锌纳米棒的制备及应用研究 | 第60-62页 |
参考文献 | 第62-70页 |
攻读硕士学位期间的科研成果 | 第70-71页 |
作者简介 | 第71-72页 |
致谢 | 第72页 |