| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-36页 |
| 1.1 飞秒激光加工简介 | 第12-20页 |
| 1.1.1 飞秒激光多光子加工技术 | 第12-18页 |
| 1.1.2 飞秒激光烧蚀技术 | 第18-20页 |
| 1.2 光场调制飞秒激光加工技术 | 第20-26页 |
| 1.2.1 多光束并行加工技术 | 第20-22页 |
| 1.2.2 面型光场加工技术 | 第22-26页 |
| 1.3 湿法刻蚀辅助飞秒激光加工 | 第26-30页 |
| 1.4 干法刻蚀简介 | 第30-34页 |
| 1.4.1 常用的干法刻蚀工艺 | 第30-32页 |
| 1.4.2 干法刻蚀技术的应用 | 第32-34页 |
| 1.5 本论文的研究思路和主要内容 | 第34-36页 |
| 第二章 干法刻蚀辅助激光多光子聚合图形转移技术 | 第36-48页 |
| 2.1 引言 | 第36页 |
| 2.2 干法刻蚀辅助激光多光子聚合图形转移技术工艺流程 | 第36-38页 |
| 2.3 聚合物三维结构的飞秒激光多光子聚合加工 | 第38-40页 |
| 2.4 干法刻蚀实现光刻胶图形向蓝宝石衬底的转移 | 第40-43页 |
| 2.5 蓝宝石微光学器件的制备 | 第43-46页 |
| 2.5.1 蓝宝石微透镜的制备 | 第44-45页 |
| 2.5.2 蓝宝石涡旋光束产生器的制备 | 第45-46页 |
| 2.6 本章小结 | 第46-48页 |
| 第三章 硅基微透镜阵列的可控制备 | 第48-66页 |
| 3.1 引言 | 第48页 |
| 3.2 干法刻蚀辅助激光直写技术的工艺流程 | 第48-51页 |
| 3.3 硅基凹透镜直径和深度的调控 | 第51-58页 |
| 3.4 硅基凹透镜阵列及其成像结果 | 第58-61页 |
| 3.5 转写制备PDMS凸透镜阵列 | 第61-63页 |
| 3.6 与半导体工艺的兼容性研究 | 第63-64页 |
| 3.7 本章小结 | 第64-66页 |
| 第四章 硬质蓝宝石透镜阵列模板制备及玻璃浇铸转写研究 | 第66-82页 |
| 4.1 引言 | 第66-67页 |
| 4.2 蓝宝石凹透镜的制备及调控 | 第67-71页 |
| 4.3 大面积蓝宝石微透镜阵列的快速制备 | 第71-74页 |
| 4.4 蓝宝石微凹透镜阵列的紫外匀束特性 | 第74-77页 |
| 4.5 浇铸转写制备玻璃凸透镜阵列 | 第77-80页 |
| 4.6 本章小结 | 第80-82页 |
| 第五章 干法刻蚀辅助激光灰度直写技术研究 | 第82-100页 |
| 5.1 引言 | 第82-83页 |
| 5.2 激光改性制备二维平面图形 | 第83-88页 |
| 5.3 干法刻蚀实现三维结构的制备 | 第88-91页 |
| 5.4 激光灰度直写制备硅基三维微结构 | 第91-98页 |
| 5.5 连续面型菲涅耳波带片的制备 | 第98-99页 |
| 5.6 本章小结 | 第99-100页 |
| 第六章 结论及展望 | 第100-102页 |
| 参考文献 | 第102-114页 |
| 作者简介及在学期间所取得的科研成果 | 第114-118页 |
| 致谢 | 第118页 |