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分子拥挤环境下分子印迹整体柱及基于低共熔溶剂的毛细管整体柱制备及评价

中文摘要第4-5页
Abstract第5页
符号说明第9-10页
一、前言第10-18页
    1.1 分子印迹技术第10-14页
        1.1.1 分子印迹聚合物第10-11页
        1.1.2 分子印迹聚合物的合成材料第11-14页
    1.2 低共熔溶剂第14-16页
    1.3 选题意义及研究内容第16-18页
二、大分子拥挤环境下分子印迹整体柱的制备及CEC评价第18-33页
    2.1 引言第18-19页
    2.2 实验部分第19-22页
        2.2.1 试剂第19-20页
        2.2.2 仪器第20页
        2.2.3 毛细管整体柱的制备第20-21页
        2.2.4 毛细管电色谱第21-22页
        2.2.5 MIPs整体柱SEM特征第22页
    2.3 结果与结论第22-31页
        2.3.1 大分子拥挤试剂环境下 MIPs 整体柱的合成第22-27页
        2.3.2 毛细管电色谱实验第27-31页
    2.4 小结第31-33页
三、基于低共熔溶剂的毛细管整体柱的制备和研究第33-57页
    3.1 引言第33-34页
    3.2 实验部分第34-37页
        3.2.1 试剂第34页
        3.2.2 仪器第34-35页
        3.2.3 毛细管整体柱的制备第35页
        3.2.4 毛细管电色谱第35-37页
        3.2.5 毛细管整体柱的SEM形态表征第37页
    3.3 结果与讨论第37-56页
        3.3.1 形态学考察第37-39页
        3.3.2 以低共熔溶剂为致孔剂整体柱制备参数研究第39-48页
        3.3.3 板高曲线第48-50页
        3.3.4 DES种类对分离效率的影响第50-51页
        3.3.5 电解液离子强度对整体柱分离效率的影响第51-52页
        3.3.6 流动相离子强度对流速的影响第52-53页
        3.3.7 氮吸附(Gas adsorption)实验第53-55页
        3.3.8 重现性试验第55-56页
    3.4 小结第56-57页
结论第57-58页
参考文献第58-69页
发表论文和参加科研情况说明第69-70页
综述第70-95页
    综述参考文献第88-95页
致谢第95页

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