| 致谢 | 第5-7页 |
| 摘要 | 第7-10页 |
| Abstract | 第10-12页 |
| 1 绪论 | 第16-36页 |
| 1.1 研究背景 | 第16-18页 |
| 1.2 NO催化氧化的研究现状 | 第18-25页 |
| 1.3 等离子体制备催化剂的研究进展 | 第25-33页 |
| 1.3.1 等离子体的分类及特性 | 第25-26页 |
| 1.3.2 等离子体在催化剂制备领域的应用 | 第26-31页 |
| 1.3.3 等离子体制备催化剂的机理 | 第31-33页 |
| 1.4 课题的提出及本文的主要内容 | 第33-36页 |
| 2 实验设备及方法 | 第36-47页 |
| 2.1 等离子体制备催化剂实验平台 | 第36-39页 |
| 2.2 催化剂制备方法 | 第39-41页 |
| 2.3 反应活性评价系统 | 第41-43页 |
| 2.4 分析测试方法 | 第43-47页 |
| 3 氧化性催化剂组分的筛选及优化研究 | 第47-72页 |
| 3.1 引言 | 第47页 |
| 3.2 理论及实验方法 | 第47-48页 |
| 3.3 金属氧化物催化剂活性组分筛选 | 第48-54页 |
| 3.3.1 基于量子化学计算的活性组分性能判断 | 第48-52页 |
| 3.3.2 金属氧化物催化性能的实验研究 | 第52-54页 |
| 3.4 双组分催化剂的组分筛选及优化研究 | 第54-71页 |
| 3.4.1 锰基双组分催化剂催化性能研究 | 第54-56页 |
| 3.4.2 催化剂物理化学特性分析 | 第56-61页 |
| 3.4.3 锰铈催化剂氧化性能的DFT研究 | 第61-71页 |
| 3.5 本章小结 | 第71-72页 |
| 4 等离子体制备催化剂及其性能强化规律的研究 | 第72-92页 |
| 4.1 引言 | 第72页 |
| 4.2 等离子体低温制备过程 | 第72-75页 |
| 4.3 催化剂氧化性能对比 | 第75-78页 |
| 4.4 催化剂物理结构和表面化学特性分析 | 第78-90页 |
| 4.4.1 比表面和孔结构分析 | 第78-79页 |
| 4.4.2 微观形貌及晶形分析 | 第79-82页 |
| 4.4.3 表面特性分析 | 第82-85页 |
| 4.4.4 氧化还原性能分析 | 第85-86页 |
| 4.4.5 傅立叶变换红外光谱分析 | 第86-90页 |
| 4.5 本章小结 | 第90-92页 |
| 5 放电参数对催化剂性能的调控规律研究 | 第92-112页 |
| 5.1 引言 | 第92页 |
| 5.2 放电功率和放电时间的影响 | 第92-93页 |
| 5.3 Ar、N_2和空气等离子体预处理对催化剂性能的影响 | 第93-100页 |
| 5.3.1 等离子体预处理过程分析 | 第93-96页 |
| 5.3.2 催化剂的氧化性能 | 第96页 |
| 5.3.3 催化剂物理化学特性表征 | 第96-100页 |
| 5.4 放电气体中O_2浓度对催化剂性能的调控规律 | 第100-110页 |
| 5.4.1 对催化性能的影响规律 | 第100-102页 |
| 5.4.2 对催化剂物理化学特性的影响规律 | 第102-110页 |
| 5.5 本章小结 | 第110-112页 |
| 6 等离子体协同催化低温脱除NO和单质汞的研究 | 第112-130页 |
| 6.1 引言 | 第112页 |
| 6.2 等离子体与催化的协同作用研究 | 第112-120页 |
| 6.2.1 填充催化剂对放电的影响 | 第112-113页 |
| 6.2.2 催化剂对等离子体氧化NO的影响 | 第113-115页 |
| 6.2.3 等离子体对催化剂吸附单质汞的影响 | 第115-120页 |
| 6.3 等离子体协同催化脱除污染物的影响因素研究 | 第120-128页 |
| 6.3.1 能量密度的影响 | 第120-122页 |
| 6.3.2 温度的影响 | 第122-124页 |
| 6.3.3 O_2浓度的影响 | 第124-127页 |
| 6.3.4 HCl的影响 | 第127-128页 |
| 6.4 本章小结 | 第128-130页 |
| 7 全文总结及工作展望 | 第130-134页 |
| 7.1 全文总结 | 第130-132页 |
| 7.2 本文的创新之处 | 第132-133页 |
| 7.3 对未来工作的展望 | 第133-134页 |
| 参考文献 | 第134-150页 |
| 作者简历 | 第150-151页 |