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图案极化铌酸锂薄膜的制备与非线性光学应用

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
第一章 绪论第11-29页
    1.1 研究背景第11-14页
    1.2 光学超晶格的制备第14-16页
    1.3 非线性光学效应第16-18页
    1.4 位相匹配原理第18-20页
        1.4.1 双折射位相匹配第18-19页
        1.4.2 准位相匹配理论第19-20页
    1.5 本文的主要内容第20-22页
    参考文献第22-29页
第二章 图案极化铌酸锂晶体薄膜的制备第29-49页
    2.1 铌酸锂晶体的畴极化第29-34页
        2.1.1 铌酸锂晶体的结构与性质第29-31页
        2.1.2 铌酸锂畴极化的方法第31-33页
        2.1.3 铌酸锂畴极化的性质第33-34页
    2.2 图案极化铌酸锂薄膜的制备流程第34-42页
        2.2.1 样品的准备第35-36页
        2.2.2 样品的清洗第36-37页
        2.2.3 金属电极的制作第37-41页
        2.2.4 室温加压极化第41-42页
    2.3 图案极化铌酸锂薄膜的腐蚀观察第42-44页
        2.3.1 选择性腐蚀第42页
        2.3.2 极化工艺的改进第42-44页
    2.4 本章小结第44-45页
    参考文献第45-49页
第三章 非线性衍射与全息第49-67页
    3.1 非线性衍射第49-58页
        3.1.1 三波混频过程第49-52页
        3.1.2 非线性拉曼奈斯衍射第52-55页
        3.1.3 非线性切伦科夫衍射第55-58页
    3.2 非线性光学全息第58-63页
        3.2.1 全息技术第58-59页
        3.2.2 非线性全息技术第59-61页
        3.2.3 非线性波前调控实验第61-63页
    3.3 本章小结第63-64页
    参考文献第64-67页
第四章 总结与展望第67-69页
攻读硕士期间科研成果第69-71页
致谢第71-72页

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