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太阳电池用铸造多晶硅结构缺陷和杂质的研究

摘要第1-7页
Abstract第7-12页
第一章 绪论第12-14页
第二章 文献综述第14-34页
   ·引言第14页
   ·太阳电池产业及多晶硅材料的发展第14-18页
     ·国际多晶硅产业概况第16-17页
     ·我国多晶硅产业现状第17-18页
   ·铸造多晶硅材料的特点及其生长工艺第18-20页
     ·铸造多晶硅的生长工艺第18-20页
   ·铸造多晶硅中的杂质和缺陷及其影响第20-27页
     ·硅片的少子寿命及其影响因素第20-21页
     ·铸造多晶硅中的原生杂质第21-24页
     ·铸造多晶硅中的结构缺陷第24-27页
   ·铸造多晶硅材料的工艺改进及相应研究第27-33页
     ·晶体生长的工艺优化第27-29页
     ·铸造新工艺第29-30页
     ·提高硅片质量的后续改进工艺第30-33页
   ·本论文的研究目的和内容第33-34页
第三章 实验第34-40页
   ·实验方案第34页
     ·铸造多晶硅边角锭与中间锭的表征第34页
     ·铸造多晶硅低少子寿命区的研究第34页
     ·太阳电池制造工艺对边角片低少子寿命带的影响第34页
   ·实验设备第34-40页
     ·傅立叶变换红外光谱仪第34-36页
     ·Micro-PCD的原理及应用第36-38页
     ·ICP-MS的原理及应用第38-40页
第四章 铸造多晶硅边角锭与中间锭的表征第40-50页
   ·引言第40页
   ·铸造多晶硅中间锭与边角锭的寿命分布第40-43页
     ·实验样品及过程第40-41页
     ·实验结果及讨论第41-43页
   ·铸造多晶硅中原生缺陷-位错第43-46页
     ·实验样品及过程第43-44页
     ·实验结果与讨论第44-46页
   ·铸造多晶硅中的间隙铁及吸杂第46-49页
     ·实验样品及过程第46-47页
     ·实验结果与讨论第47-49页
   ·本章小结第49-50页
第五章 铸造多晶硅锭边缘低少子寿命带的研究第50-60页
   ·前言第50-51页
   ·实验样品与过程第51-52页
   ·实验结果与讨论第52-59页
     ·碳、氧含量第52-54页
     ·金属杂质及Fe-B第54-57页
     ·低少子寿命带缺陷的分析第57-59页
   ·本章小结第59-60页
第六章 太阳电池制造工艺对低少子寿命带的影响第60-70页
   ·前言第60页
   ·低少子寿命带对边角片电池效率的影响第60-62页
     ·边角片电池的制造第60-61页
     ·边角片电池的表征第61-62页
   ·电池制造各工艺对低少子寿命带的影响第62-69页
     ·实验样品及过程第62-63页
     ·实验结果与讨论第63-69页
       ·磷扩散对低少子寿命带的影响第63-66页
       ·铝吸杂对低少子寿命带的影响第66-68页
       ·氢钝化对低少子寿命带的影响第68-69页
   ·本章小结第69-70页
第七章 结论第70-72页
参考文献第72-78页
致谢第78-80页
个人简历第80-82页
攻读学位期间发表的学术论文与取得的其他研究成果第82页

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