| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-30页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·储氢合金的研究现状 | 第12-14页 |
| ·材料的储氢原理 | 第12-14页 |
| ·Mg及Mg-Ni基合金的研究现状 | 第14-20页 |
| ·Mg及Mg-Ni基储氢合金及其结构 | 第14-15页 |
| ·Mg-Ni基储氢合金的研究现状 | 第15-20页 |
| ·表面改性及机械球磨 | 第15-18页 |
| ·循环稳定性 | 第18页 |
| ·催化效应 | 第18-19页 |
| ·化学成分 | 第19-20页 |
| ·Mg及Mg-Ni基合金薄膜的研究进展 | 第20-23页 |
| ·Mg基薄膜的研究现状 | 第20-21页 |
| ·Mg及Mg-Ni基薄膜的氢化性能 | 第21-22页 |
| ·Mg及Mg-Ni薄膜的光学性能 | 第22-23页 |
| ·Mg基薄膜的制备方法 | 第23-28页 |
| ·真空蒸镀法 | 第24-25页 |
| ·磁控溅射法 | 第25-27页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第27-28页 |
| ·选题依据及研究意义 | 第28-30页 |
| 第二章 实验原理与方法 | 第30-36页 |
| ·靶材的制备 | 第30-32页 |
| ·Mg-Ni合金靶材的制备 | 第30-31页 |
| ·机械球磨混合 | 第30页 |
| ·合金粉压制 | 第30页 |
| ·扩散烧结 | 第30-31页 |
| ·拼接靶及复合靶材的制备 | 第31-32页 |
| ·基底处理 | 第32-33页 |
| ·ITO玻璃基底的预处理 | 第32页 |
| ·单晶硅基底的预处理 | 第32-33页 |
| ·泡沫不锈钢基底的预处理 | 第33页 |
| ·仪器分析及原理 | 第33-36页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第33-34页 |
| ·扫描电子显微(SEM)观察 | 第34页 |
| ·透射电子显微(TEM)观察 | 第34页 |
| ·原子力显微(AFM)分析 | 第34-35页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第35页 |
| ·红外光谱(IR)分析 | 第35-36页 |
| 第三章 薄膜制备与性能检测方法 | 第36-44页 |
| ·脉冲激光沉积法制备薄膜 | 第36-38页 |
| ·脉冲激光沉积法制备薄膜操作步骤 | 第36-37页 |
| ·脉冲激光沉积法制备薄膜工艺参数 | 第37-38页 |
| ·磁控溅射法制备薄膜 | 第38-39页 |
| ·磁控溅射法制备合金薄膜步骤 | 第38-39页 |
| ·磁控溅射法制备薄膜的膜层设计 | 第39页 |
| ·薄膜的结构及性能测试 | 第39-44页 |
| ·薄膜的结构分析 | 第39-40页 |
| ·薄膜的X射线衍射(XRD)测试 | 第39-40页 |
| ·薄膜的扫描电子显微(SEM)分析 | 第40页 |
| ·薄膜的透射电子显微镜(TEM)测试 | 第40页 |
| ·薄膜的性能测试 | 第40-44页 |
| ·薄膜界面结合力测试 | 第40页 |
| ·薄膜电化学性能测试 | 第40-41页 |
| ·薄膜氢化性能测试 | 第41-42页 |
| ·薄膜光学性能测试 | 第42-44页 |
| 第四章 Mg-Ni-PdAg复合薄膜的制备及性能研究 | 第44-62页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·脉冲激光沉积法制备Mg-Ni-PdAg复合薄膜及结构分析 | 第44-51页 |
| ·Mg_2Ni合金靶材的制备及结构分析 | 第44-45页 |
| ·脉冲激光沉积法制备Mg-Ni-PdAg复合薄膜的工艺 | 第45-46页 |
| ·脉冲激光沉积法制备Mg-Ni-PdAg复合薄膜的组织结构 | 第46-51页 |
| ·工艺一制备薄膜的形貌及结构分析 | 第46-48页 |
| ·工艺二制备薄膜的组织结构与形貌分析 | 第48-49页 |
| ·工艺三、四制备薄膜的组织结构及形貌分析 | 第49-51页 |
| ·磁控溅射法制备Mg-Ni-PdAg复合薄膜的组织结构及性能 | 第51-59页 |
| ·三明治结构及纳米多层Mg-Ni-PdAg复合薄膜的制备 | 第51-52页 |
| ·磁控溅射法制备Mg-Ni-PdAg复合薄膜的组织结构 | 第52-56页 |
| ·Mg-Ni-PdAg复合薄膜的结构分析 | 第52页 |
| ·Mg-Ni-PdAg复合薄膜的形貌 | 第52-54页 |
| ·Mg-Ni-PdAg复合薄膜的成分分析 | 第54-56页 |
| ·磁控溅射法制备Mg-Ni-PdAg复合薄膜的电化学性能 | 第56-57页 |
| ·磁控溅射法制备Mg-Ni-PdAg复合薄膜的氢化及机械性能 | 第57-59页 |
| ·Mg-Ni-PdAg复合薄膜的氢化性能 | 第57-58页 |
| ·Mg-Ni-PdAg复合薄膜的机械性能 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-62页 |
| 第五章 磁控溅射法制备Mg-Ni多层薄膜的结构与性能 | 第62-80页 |
| ·引言 | 第62页 |
| ·基底温度对Mg-Ni多层薄膜结构和性能的影响 | 第62-71页 |
| ·不同基底温度下Mg-Ni薄膜的制备及组织结构 | 第62-64页 |
| ·不同基底温度下制备Mg-Ni多层薄膜的形貌 | 第64-65页 |
| ·不同基底温度下制备Mg-Ni多层薄膜的TEM表征 | 第65-66页 |
| ·不同基底温度下制备薄膜的氢化光学性能 | 第66-71页 |
| ·Mg-Ni多层薄膜的氢化性能 | 第66-68页 |
| ·不同温度下制备Mg-Ni多层薄膜的光学性能 | 第68-70页 |
| ·Mg-Ni多层薄膜的红外光谱分析 | 第70-71页 |
| ·调制周期对Mg-Ni多层薄膜结构和性能的影响 | 第71-77页 |
| ·不同调制周期Mg-Ni多层薄膜的表面及截面形貌 | 第72-74页 |
| ·不同调制周期Mg-Ni多层薄膜的结构分析 | 第74-76页 |
| ·不同调制周期Mg-Ni薄膜的氢化光学性能 | 第76-77页 |
| ·本章小结 | 第77-80页 |
| 第六章 结论 | 第80-82页 |
| 参考文献 | 第82-88页 |
| 致谢 | 第88-89页 |
| 个人简历 | 第89-90页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文及其他研究成果 | 第90页 |
