摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-12页 |
1 绪论 | 第12-40页 |
·纳米材料的分类和特质 | 第12-13页 |
·一维磁性纳米材料的磁性特点和应用 | 第13-16页 |
·模板辅助电化学沉积法制备一维纳米材料 | 第16-21页 |
·阳极氧化铝模板概述 | 第21-32页 |
·多孔氧化铝模板的发展历史 | 第21-28页 |
·制备氧化铝膜的三种常用单一酸 | 第23-25页 |
·硬氧化过程的发展 | 第25-26页 |
·有机酸和混合酸中制备氧化铝膜的发展 | 第26-28页 |
·氧化铝模板的形成机理 | 第28-32页 |
·场助溶解模型 | 第28-29页 |
·稳态生长模型 | 第29页 |
·临界电流密度模型 | 第29-30页 |
·体膨胀应力模型 | 第30页 |
·迁移模型 | 第30-32页 |
·本论文研究思路和主要内容 | 第32-33页 |
参考文献 | 第33-40页 |
2 实验过程和表征方法 | 第40-52页 |
·实验过程 | 第40-44页 |
·氧化铝膜的制备过程 | 第40-43页 |
·一维磁性纳米材料的制备 | 第43-44页 |
·实验仪器 | 第44-45页 |
·表征方法 | 第45-51页 |
·形貌表征 | 第46-48页 |
·结构表征 | 第48-49页 |
·成分表征 | 第49-50页 |
·磁性表征 | 第50-51页 |
参考文献 | 第51-52页 |
3 单一酸中小孔间距氧化铝膜的可控制备与研究 | 第52-72页 |
·引言 | 第52-53页 |
·实验过程 | 第53-54页 |
·结果分析 | 第54-67页 |
·硫酸中制备氧化铝膜的研究 | 第54-60页 |
·酒精的加入对氧化电压的影响 | 第54-56页 |
·酒精的加入对孔径和孔间距的影响 | 第56-57页 |
·酒精的加入对生长速率的影响 | 第57-60页 |
·草酸中制备氧化铝膜的分析研究 | 第60-64页 |
·不同氧化电压对氧化铝膜的影响 | 第60-62页 |
·不同电解液温度对氧化铝膜的影响 | 第62-63页 |
·不同扩孔时间对氧化铝膜的影响 | 第63-64页 |
·酒精的加入对草酸中制备氧化铝膜的影响 | 第64-67页 |
·酒精的加入对氧化铝膜孔径和孔间距的影响 | 第64-66页 |
·酒精的加入对氧化铝膜生长速率的影响 | 第66-67页 |
·本章小结 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-72页 |
4 混合酸中连续可调大孔间距氧化铝膜的制备与研究 | 第72-86页 |
·引言 | 第72-73页 |
·实验过程 | 第73-74页 |
·结果分析 | 第74-81页 |
·直接加电压和逐渐加电压的区别 | 第74-75页 |
·特定RC:O中氧化电压和孔间距的范围 | 第75-76页 |
·不同比例混合酸中氧化铝膜的孔间距 | 第76-78页 |
·不同比例混合酸中孔间距大范围连续可调的原因分析 | 第78-81页 |
·本章小结 | 第81-82页 |
参考文献 | 第82-86页 |
5 小孔径氧化铝模板中一维磁性金属纳米材料的制备与研究 | 第86-100页 |
·引言 | 第86-87页 |
·实验过程 | 第87-88页 |
·结果分析与讨论 | 第88-96页 |
·不同直径Fe纳米线的结构与磁性研究 | 第88-92页 |
·镍纳米链和纳米线的结构和磁性研究 | 第92-94页 |
·一维Co纳米材料的磁性研究 | 第94-96页 |
·Fe、Co和Ni三种一维材料的比较 | 第96页 |
·本章小结 | 第96-97页 |
参考文献 | 第97-100页 |
6 大孔径氧化铝模板中 Ni 纳米材料形貌的控制生长与机理研究 | 第100-110页 |
·引言 | 第100页 |
·实验过程 | 第100-101页 |
·结果分析与讨论 | 第101-108页 |
·相同外径Ni纳米线和纳米管的形貌和磁学性能 | 第101-103页 |
·Ni纳米线、管的生长机制分析 | 第103-108页 |
·Ni纳米结构的电化学沉积过程 | 第103-104页 |
·Ni纳米线和纳米管的生长机理 | 第104-108页 |
·本章小结 | 第108页 |
参考文献 | 第108-110页 |
7 结论 | 第110-112页 |
论文创新点 | 第112-114页 |
致谢 | 第114-116页 |
攻读学位期间发表的论文 | 第116-117页 |