| 中文摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-22页 |
| ·太阳能电池的发展 | 第10-11页 |
| ·光伏效应 | 第11页 |
| ·太阳能电池分类 | 第11-12页 |
| ·铜锌锡硫（CZTS）太阳能电池 | 第12-15页 |
| ·CZTS 的性质 | 第12-13页 |
| ·CZTS 太阳能电池结构 | 第13-14页 |
| ·CZTS 太阳能电池研究进展 | 第14-15页 |
| ·CZTS 薄膜制备方法 | 第15-18页 |
| ·真空沉积方法 | 第15-17页 |
| ·磁控溅射法 | 第16页 |
| ·热蒸发法 | 第16-17页 |
| ·非真空制备方法 | 第17-18页 |
| ·电化学或者化学浴法 | 第17-18页 |
| ·高温热分解法 | 第18页 |
| ·CZT 前躯体制备方式对 CZTS 太阳能电池性能的影响 | 第18-20页 |
| ·Cu/Zn(ZnS)/Sn 顺序制备 CZT 前驱体 | 第18-19页 |
| ·Sn/Cu /Zn(ZnS)顺序制备前躯体 | 第19页 |
| ·Zn(ZnS)/Sn/Cu 顺序制备前躯体 | 第19-20页 |
| ·各种前驱体沉积顺序对 CZTS 薄膜太阳能电池性能的影响 | 第20页 |
| ·选题依据与研究方案 | 第20-21页 |
| ·选题依据 | 第20-21页 |
| ·研究方案 | 第21页 |
| ·本章小结 | 第21-22页 |
| 第二章 真空蒸发和硫化法制备 CZTS 薄膜 | 第22-30页 |
| ·真空蒸发镀膜 | 第22-23页 |
| ·薄膜生长 | 第23-24页 |
| ·CZT 前躯体制备工艺参数设计 | 第24-25页 |
| ·CZTS 薄膜制备过程 | 第25-27页 |
| ·基片清洗 | 第25-26页 |
| ·CZT 前躯体制备 | 第26页 |
| ·硫化制备 CZTS 薄膜 | 第26-27页 |
| ·实验设备及表征仪器简介 | 第27-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 CZTS 薄膜的结构、成分和形貌研究 | 第30-44页 |
| ·测试仪器原理 | 第30-34页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第30-33页 |
| ·能量色散 X 射线谱（EDX） | 第33页 |
| ·扫描光学显微镜 | 第33-34页 |
| ·CZTS 薄膜成分分析 | 第34-38页 |
| ·CZTS 薄膜成分对 CZTS 薄膜物相结构的影响 | 第35-36页 |
| ·硫化温度对 CZTS 薄膜物相结构的影响 | 第36-37页 |
| ·硫化时间对 CZTS 薄膜物相结构的影响 | 第37-38页 |
| ·CZTS 薄膜表面形貌的分析 | 第38-42页 |
| ·CZTS 薄膜成分对表面形貌的影响 | 第38-40页 |
| ·硫化温度对 CZTS 薄膜表面形貌的影响 | 第40-41页 |
| ·硫化时间对 CZTS 薄膜表面形貌的影响 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第四章 CZTS 薄膜光学性能分析 | 第44-57页 |
| ·半导体吸收光谱理论分析 | 第44-48页 |
| ·光吸收与载流子产生 | 第44页 |
| ·禁带宽度与太阳能电池转换效率关系 | 第44-46页 |
| ·半导体材料中光的吸收规律 | 第46-47页 |
| ·紫外-可见-红外光分光光度计测试原理 | 第47-48页 |
| ·CZTS 薄膜制备参数对 CZTS 薄膜光学性能的影响 | 第48-56页 |
| ·CZTS 薄膜成分对 CZTS 薄膜光学性能的影响 | 第48-52页 |
| ·硫化温度对 CZTS 薄膜光学性能的影响 | 第52-54页 |
| ·硫化时间对 CZTS 薄膜光学性能的影响 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 CZTS 薄膜电学性能分析 | 第57-64页 |
| ·半导体霍尔效应测试原理 | 第57-59页 |
| ·太阳能电池吸收层电学性能要求 | 第59-60页 |
| ·制备参数对半导体性能的影响 | 第60-63页 |
| ·CZTS 薄膜成分对 CZTS 薄膜半导体性能的影响 | 第60-61页 |
| ·硫化温度对 CZTS 薄膜半导体性能的影响 | 第61-62页 |
| ·硫化时间对 CZTS 薄膜半导体性能的影响 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第六章 磁控溅射制备 ITO 导电薄膜 | 第64-74页 |
| ·ITO 透明导电薄膜的基本性能 | 第64-65页 |
| ·影响 ITO 薄膜导电性能的几个因素 | 第65-66页 |
| ·磁控溅射制备 ITO 薄膜 | 第66-68页 |
| ·ITO 薄膜的制备方法 | 第66-67页 |
| ·ITO 薄膜制备要求 | 第67页 |
| ·磁控溅射制备 ITO 薄膜的工艺流程 | 第67-68页 |
| ·ITO 薄膜测试及结果分析 | 第68-73页 |
| ·溅射功率对 ITO 薄膜表面形态的影响 | 第68-69页 |
| ·基片温度对 ITO 薄膜物相结构的影响 | 第69-70页 |
| ·溅射工艺对 ITO 薄膜光学性能的影响 | 第70-71页 |
| ·溅射工艺对 ITO 薄膜半导体性能的影响 | 第71-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 结论 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 个人简历、在学期间的研究成果及发表的论文 | 第82页 |
